[实用新型]一种水性蚀刻光阻剂的循环回收装置

说明书

本实用新型涉及光阻涂布机技术领域，且公开了一种水性蚀刻光阻剂的循环回收装置，包括涂布平台，涂布平台内开设有空腔，涂布平台的上表面开设有连通空腔的导料口，且导料口的内壁上对称固定连接有支撑块，两个支撑块的上表面共同固定连接有基板，基板的上表面安装有匹配的旋转杆，且旋转杆的旋转面积覆盖导料口，空腔内滑动连接有匹配的移动板，移动板的两端均固定连接有滑块，空腔的内壁对应滑块的位置处开设有匹配的滑槽，且滑块与滑槽滑动连接，滑块的下表面固定连接有弹簧，弹簧的另一端固定连接在滑槽对应的侧壁上。本实用新型使得水性蚀刻光阻剂可以进行循环回收，有效避免资源的浪费。

技术领域

本实用新型涉及光阻涂布机技术领域，尤其涉及一种水性蚀刻光阻剂的循环回收装置。

背景技术

目前，行业内使用的光阻旋转涂布机，在对标准基板进行涂布时，约使用90立方厘米的水性蚀刻光阻剂，但只有大约30立方厘米的水性蚀刻光阻剂留在基板上，造成了水性蚀刻光阻剂的浪费。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中光阻旋转涂布机容易造成水性蚀刻光阻剂浪费的问题，而提出的一种水性蚀刻光阻剂的循环回收装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种水性蚀刻光阻剂的循环回收装置，包括涂布平台，所述涂布平台内开设有空腔，所述涂布平台的上表面开设有连通空腔的导料口，且导料口的内壁上对称固定连接有支撑块，两个所述支撑块的上表面共同固定连接有基板，所述基板的上表面安装有匹配的旋转杆，且旋转杆的旋转面积覆盖导料口，所述空腔内滑动连接有匹配的移动板，所述移动板的两端均固定连接有滑块，所述空腔的内壁对应滑块的位置处开设有匹配的滑槽，且滑块与滑槽滑动连接，所述滑块的下表面固定连接有弹簧，所述弹簧的另一端固定连接在滑槽对应的侧壁上，所述空腔内部的下表面固定连接有多个均匀分布的楔块，所述楔块的另一端贯穿移动板并向上延伸，所述涂布平台的下表面固定连接有收集箱，且收集箱与空腔相连通。

优选的，所述收集箱的内壁上开设有T型滑槽，且T型滑槽内滑动连接有匹配的T型滑块，所述T型滑块远离T型滑槽槽底的一侧固定连接有浮块，所述浮块的上表面固定连接有第一金属块，所述收集箱内部的上表面对应第一金属块的位置处固定连接有第二金属块，所述收集箱的外侧壁上固定安装有警报器。

优选的，所述滑块靠近滑槽槽底的一侧开设有滚珠槽，且滚珠槽内滚动连接有滚珠，所述滚珠远离滚珠槽槽底的一端穿过滚珠槽的槽口并向外延伸，且滚动连接在滑槽的槽底。

优选的，所述楔块为锥形设置，且楔块的上端直径大于下端直径。

优选的，所述收集箱为透明箱体。

优选的，所述收集箱靠近底端的侧壁上固定连通有排料管，且排料管上安装有阀门。

与现有技术相比，本实用新型提供了一种水性蚀刻光阻剂的循环回收装置，具备以下有益效果：

1、该水性蚀刻光阻剂的循环回收装置，通过设置涂布平台、空腔、导料口、基板、旋转杆、移动板、滑块、滑槽、弹簧、楔块和收集箱，光阻旋转涂布机驱动旋转杆，基板上的水性蚀刻光阻剂会在旋转杆的作用下向四周扩散，多余的水性蚀刻光阻剂经由导料口落入涂布平台的空腔内，水性蚀刻光阻剂因重力作用会对移动板施加一个压力，当水性蚀刻光阻剂达到一定量时，使移动板上的滑块沿着滑槽向下滑动并压缩弹簧，此时，移动板与楔块之间会产生缝隙，使水性蚀刻光阻剂经由缝隙下落，最终回收到收集箱内，水性蚀刻光阻剂减少时，弹簧会带动移动板复位，使楔块与移动板之间密闭，从而避免收集箱内水性蚀刻光阻剂的挥发，使得水性蚀刻光阻剂可以进行循环回收，有效避免资源的浪费。