[实用新型]高排标准下低浓度含氟废水处理及深度除氟系统有效

专利信息
申请号: 201920126071.4 申请日: 2019-01-23
公开(公告)号: CN209652088U 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 唐凯峰;李勇;元绍建;王华 申请(专利权)人: 天津市市政工程设计研究院
主分类号: C02F9/14 分类号: C02F9/14;C02F101/14
代理公司: 12201 天津市北洋有限责任专利代理事务所 代理人: 曹玉平<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 300051 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 水解调节池 本实用新型 臭氧氧化池 吸附滤池 二沉池 预处理 含氟废水处理 常规污染物 饮用水标准 除氟系统 废水入口 氟吸附剂 化学手段 继续处理 排水管道 受纳水体 输水管道 污泥回流 依次连接 有机结合 运行成本 中和后排 磁加载 氟化物 复合式 生物池 吸附池 除氟 粉碳 混凝 两级 再生产 去除 紧凑 生化 自动化 废水 澄清 达标 出口 保证 投资
【说明书】:

实用新型公开了一种高排标准下低浓度含氟废水处理及深度除氟系统,包括通过输水管道依次连接的水解调节池、复合式两级AO生物池、二沉池、粉碳吸附池、PH调节及磁加载混凝澄清除氟池、氟吸附滤池和臭氧氧化池;所述水解调节池的废水入口连接预处理后的排水管道;所述臭氧氧化池的出口经管道送至受纳水体;所述二沉池产生的部分污泥回流至所述水解调节池;所述氟吸附滤池的氟吸附剂再生产生的废水经中和后排入所述水解调节池继续处理。本实用新型将物化、生化以及化学手段有机结合,对COD、BOD、NH3‑N、TN、TP等常规污染物去除具有较好效果,能够保证氟化物指标达标饮用水标准,具有投资少、布置紧凑、运行成本较低、自动化程度高等优点。

技术领域

本实用新型涉及光电行业废水处理及深度除氟技术,特别涉及一种芯片及外延片加工过程如清洗、切片、研磨、抛光、刻蚀等生产过程产生的综合废水处理及深度除氟系统。

背景技术

当前我国的光电行业发展迅猛,排水量不断增大,大多数的企业排水在厂内经过简单预处理达到《污水综合排放标准》(GB/T 8978-1996)后(氟化物≤20mg/L)排入城镇污水处理厂继续处理,污水中的难降解有机物、氟化物等特征污染物主要通过城镇污水稀释后排入受纳水体,并未减少特征污染物的排放总量。

光电行业废水污染物浓度总体偏低,营养物质比例失衡,氟化物含量相对较高,难降解有机物比重较大。经简单预处理后排入城镇污水处理厂,会大幅度降低城镇污水处理厂的进水污染物浓度,提高难降解有机物和氟化物浓度,进一步降低碳氮比。在城镇污水处理厂排放标准日益严格的大背景下,加剧了城镇污水处理难度,提高了整体运行成本。因此,有必要将规模较大的光电行业含氟废水集中收集,集中处理后直接排入受纳水体,进而降低城镇排水系统的整体处理难度和运行成本。

实用新型内容

本实用新型的目的是克服现有技术中的不足,提供一种高排标准下低浓度含氟废水处理及深度除氟系统,适用于光电企业经过厂内预处理达到《污水综合排放标准》后排入市政管网的工业废水处理,将物化、生化以及化学手段有机结合,对COD、BOD、NH3-N、TN、TP等常规污染物去除具有较好效果,能够保证氟化物指标达标饮用水标准。本实用新型投资少、布置紧凑、运行成本较低、自动化程度高。

本实用新型所采用的技术方案是:一种高排标准下低浓度含氟废水处理及深度除氟系统,包括:

水解调节池,所述水解调节池的废水入口连接预处理后的排水管道;

复合式两级AO生物池,所述复合式两级AO生物池的入口通过输水管道与所述水解调节池的出口相连接;所述复合式两级AO生物池采用两段缺氧好氧串联形式,包括依次串联的:一级缺氧池、一级好氧池、二级缺氧池和二级好氧池;

内回流管道,将所述一级好氧池末端产生的混合液作为内回流混合液回流至所述一级缺氧池;

二沉池,所述二沉池的入口通过输水管道与所述复合式两级AO生物池的出口相连接;

外回流管道,将所述二沉池沉淀产生的污泥的第一部分作为外回流污泥回流至所述一级缺氧池;

水解接种管道,将所述二沉池沉淀产生的污泥的第二部分作为水解接种污泥回流至所述水解调节池;

剩余污泥排放管道,将所述二沉池沉淀产生的污泥除去第一部分和第二部分的其余部分作为剩余污泥排放;

粉碳吸附池,所述粉碳吸附池的入口通过输水管道与所述二沉池的出口相连接;

PH调节及磁加载混凝澄清除氟池,所述PH调节及磁加载混凝澄清除氟池的入口通过输水管道与所述粉碳吸附池的出口相连接;所述PH调节及磁加载混凝澄清除氟池包括依次串联的:投加PH中和剂和氯化钙的PH中和池、投加混凝剂的第一混凝池、投加磁粉的第二混凝池、投加助凝剂的第三混凝池、沉淀池和中间过渡池;

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