[实用新型]一种反应釜用清洗装置

权利要求书

1.一种反应釜用清洗装置，包括支架(1)、位于所述支架(1)上的反应釜本体(2)和位于反应釜本体(2)上的搅拌装置(3)，所述反应釜本体(2)上壁开设有进水孔(7)，所述反应釜本体(2)底壁开设有出水孔(41)，于所述进水孔(7)及所述出水孔(41)上设置有密封堵盖(4)，其特征在于，所述搅拌装置(3)包括贯穿反应釜本体(2)上表面且与反应釜本体(2)转动连接的转杆(32)，所述转杆(32)上连接的若干中空设置的搅拌辊(35)，所述搅拌辊(35)包括与转杆(32)连接的连接段(353)、水平段(354)和沿转杆(32)轴向方向设置的竖直段(355)，所述转杆(32)沿轴向方向开设有与所述搅拌辊(35)连通的嵌孔(321)，所述转杆(32)与所述搅拌辊(35)上共同设置有清洗装置，所述清洗装置包括嵌设于所述竖直段(355)内的连杆(36)，所述搅拌辊(35)及所述连杆(36)外周壁均上设置有清洁刷(37)，所述嵌孔(321)内设置有调节连杆(36)伸缩的调节组件。

2.根据权利要求1所述的一种反应釜用清洗装置，其特征在于，所述调节组件包括嵌设于所述嵌孔(321)内的推杆(33)，所述转杆(32)沿轴向方向的两侧开设有与所述嵌孔(321)连通的导向槽(322)，所述推杆(33)位于反应釜本体(2)外的一端设置有可沿导向槽(322)滑移的抵推杆(331)，所述推杆(33)位于反应釜本体(2)内的一端设置有与所述转杆(32)配合的第一凸台(332)，所述连杆(36)下端设置有第二凸台(361)，所述第一凸台(332)与所述转杆(32)和所述第二凸台(361)与所述搅拌辊(35)间均设置有第一密封件，所述第一凸台(332)与所述第二凸台间填充有液体(6)。

3.根据权利要求2所述的一种反应釜用清洗装置，其特征在于，所述抵推杆(331)沿所述导向槽(322)滑移的两侧壁均设置有球形凸台(333)，所述导向槽(322)沿长度方向的两侧壁上均设置有与所述球形凸台(333)配合的若干凹槽(323)。

4.根据权利要求3所述的一种反应釜用清洗装置，其特征在于，所述第一密封件包括套设于所述第一凸台(332)及所述第二凸台(361)外周壁上的密封圈(34)。

5.根据权利要求4所述的一种反应釜用清洗装置，其特征在于，所述搅拌辊(35)远离所述转杆(32)一端设置有收口挡块(352)，所述收口挡块(352)与所述第二凸台间设置有弹性件。

6.根据权利要求5所述的一种反应釜用清洗装置，其特征在于，所述弹性件包括套设于所述转杆上的弹簧(38)。

7.根据权利要求1所述的一种反应釜用清洗装置，其特征在于，所述反应釜本体(2)底壁开设有供废料排出的废料出孔(53)。

8.根据权利要求7所述的一种反应釜用清洗装置，其特征在于，于所述反应釜本体(2)底壁设置有与所述废料出孔(53)连通的安装凸台(51)，所述安装凸台(51)上螺纹连接安装盖(5)，所述安装盖(5)与所述安装凸台(51)间嵌设有位于所述安装盖(5)靠近所述安装凸台(51)一端的密封垫板(52)。