[实用新型]双离子束共溅射纳米膜设备有效
| 申请号： | 201920031842.1 | 申请日： | 2019-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN209619442U | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 伟业智芯（北京）科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 102101 北京市延庆区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 双离子束 共溅射 纳米膜 靶台 致密 本实用新型 膜厚测量仪 薄膜制备 抽气系统 镀膜工件 多层薄膜 工件组件 均匀性好 连续溅射 吸附能力 离子源 真空室 靶材 溅射 膜质 主源 制备 薄膜 清洗 剥离 | ||
1.一种双离子束共溅射纳米膜设备，其特征在于，包括：
真空室（1），一种金属壳体，本底真空不低于1×10-5Pa；
左侧离子源（3）和右侧离子源（2），分别安装在所述真空室（1）的左右上方，是一种聚焦离子源，可产生聚焦的左侧离子束（31）和右侧离子束（21）；
工件组件（4），安装在所述真空室（1）的正上方，由电机驱动旋转轴（41），实现安装在所述旋转轴（41）下部的镀膜工件（42）行星旋转；
左侧靶台（5）和右侧靶台（6），分别安装在所述真空室（1）的左右中部位置，所述左侧离子束（31）和右侧离子束（21）正好聚焦在左侧靶台（5）和右侧靶台（6）上表面；
辅源（7），安装在所述真空室（1）的正后下方，能发射平行或发散辅源离子束（71），对准镀膜工件（42）进行原位剥离清洗；
膜厚测量仪（9），安装在镀膜工件（42）位置的侧位，对沉积在所述镀膜工件（42）上表面的薄膜进行膜厚测量；
抽气系统（8），安装在所述真空室（1）的正下方，并与所述真空室（1）连通，对真空室（1）抽真空。
2.根据权利要求1所述的双离子束共溅射纳米膜设备，其特征在于，所述左侧靶台（5）和右侧靶台（6）是水冷靶台。
3.根据权利要求1所述的双离子束共溅射纳米膜设备，其特征在于，所述抽气系统（8）由分子泵（81）、机械泵（82）、插板阀（83）、管路（84）组成。
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