[发明专利]通信装置、介质波导滤波器及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201911421155.1 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111162352A 公开(公告)日: 2020-05-15
发明(设计)人: 张曙光;秦小勇;邱* 申请(专利权)人: 广东奥迪威传感科技股份有限公司
主分类号: H01P1/20 分类号: H01P1/20;H01P11/00
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 米晶晶
地址: 511400 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 通信 装置 介质波导 滤波器 及其 制作方法
【说明书】:

发明涉及一种通信装置、介质波导滤波器及其制作方法。介质波导滤波器包括介质块。介质块的表面上设有切割槽。切割槽设置于介质块上最靠近于隔离槽的端部的端面上,切割槽与隔离槽相对应设置。介质块在烧结成型之前通过例如成型模具加工出隔离槽、耦合输入孔及耦合输出孔,并在烧结成型之后通过切割装置加工出切割槽,这样能避免介质块烧结成型过程中耦合输入端与耦合输出端之间的耦合处容易出现开裂变形的缺陷,同时由于在介质块烧结成型后加工出有切割槽,从而能相应减小隔离槽的端面到介质块的端面之间的壁厚,也就是能减小耦合输入孔与耦合输出孔之间的耦合,如此能够提高远端抑制,保证产品性能。

技术领域

本发明涉及滤波器技术领域,特别是涉及一种通信装置、介质波导滤波器及其制作方法。

背景技术

陶瓷介质滤波器,相比于其他类型滤波器,具有高Q值,低损耗等优点,同时还具有重量低,体积小的要求。微波在陶瓷介质滤波器中的谐振腔体通过容性耦合或者感性耦合的方式进行传输,微波谐振腔的耦合输入与耦合输出是微波传输线与微波谐振腔之间的互相激励,并且输入耦合与输出耦合直接影响到电磁场的分布要求,进而影响到产品的带外抑制等性能。然而,传统的陶瓷介质滤波器的产品设计及加工过程,无法进行有效地避免耦合输入端与耦合输出端相互隔离,特别是产品尺寸越大,其输入输出的耦合量设计势必加大,耦合量的加大也会影响到带外抑制性能。

发明内容

基于此,有必要克服现有技术的缺陷,提供一种通信装置、介质波导滤波器及其制作方法,它能够提高远端抑制,保证产品性能。

其技术方案如下:一种介质波导滤波器,包括:介质块,所述介质块的表面上设有隔离槽、耦合输入孔、耦合输出孔与切割槽,所述耦合输入孔与所述耦合输出孔分别设于所述隔离槽的两侧,所述切割槽设置于所述介质块上最靠近于所述隔离槽的端部的端面上,所述切割槽与所述隔离槽相对应设置,所述隔离槽与所述切割槽均由所述介质块的其中一表面贯穿延伸到所述介质块的另一表面。

上述的介质波导滤波器,介质块在烧结成型之前通过例如成型模具加工出隔离槽、耦合输入孔及耦合输出孔,并在烧结成型之后通过切割装置加工出切割槽,这样能避免介质块烧结成型过程中耦合输入端与耦合输出端之间的耦合处容易出现开裂变形的缺陷,同时由于在介质块烧结成型后加工出有切割槽,从而能相应减小隔离槽的端面到介质块的端面之间的壁厚,也就是能减小耦合输入孔与耦合输出孔之间的耦合,如此能够提高远端抑制,保证产品性能。

在其中一个实施例中,所述隔离槽与所述切割槽相互隔离;所述介质块的相对两个端面之间的距离记为介质块的宽度W,所述隔离槽的端面与所述介质块上最靠近于所述隔离槽的端部的端面之间的距离记为H,HW*5%。

在其中一个实施例中,所述切割槽的槽深记为S,S0.1mm。

在其中一个实施例中,所述切割槽的槽口形状为梯形、矩形或半圆形。

在其中一个实施例中,所述隔离槽与所述切割槽相互连通。

在其中一个实施例中,所述隔离槽的槽壁上设有凸部。

在其中一个实施例中,所述隔离槽的两个相对槽壁上均设有凸部,两个所述凸部之间的间距小于所述隔离槽的两个相对槽壁之间的间距;所述凸部为梯形凸部、弧形凸部或矩形凸部。

在其中一个实施例中,所述介质块的表面、所述隔离槽与所述切割槽的槽壁上均设有金属层,所述耦合输入孔与所述耦合输出孔的孔壁上均设有金属层。

一种介质波导滤波器的制作方法,包括如下步骤:

介质块在烧结成型之前加工出隔离槽、耦合输入孔及耦合输出孔;

介质块在烧结成型之后对所述介质块上最靠近于所述隔离槽的端部的端面上进行切割处理,并在所述介质块上最靠近于所述隔离槽的端部的端面上切割形成与所述隔离槽相应的切割槽。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东奥迪威传感科技股份有限公司,未经广东奥迪威传感科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911421155.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top