[发明专利]一种氮氧化物废气处理装置在审
申请号: | 201911409823.9 | 申请日: | 2019-12-31 |
公开(公告)号: | CN111036051A | 公开(公告)日: | 2020-04-21 |
发明(设计)人: | 陈锋;沙彦文;董长海;苏波;周小渊;柯小龙 | 申请(专利权)人: | 宁夏中晶半导体材料有限公司 |
主分类号: | B01D53/56 | 分类号: | B01D53/56;B01D53/75;B01D53/78;C02F1/66;C02F103/18 |
代理公司: | 银川长征知识产权代理事务所 64102 | 代理人: | 马长增;姚源 |
地址: | 755100 宁夏回*** | 国省代码: | 宁夏;64 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化物 废气 处理 装置 | ||
一种氮氧化物废气处理装置,包括了收气装置、洗涤罐、活性炭吸附塔和排放塔,所述收气装置、洗涤罐、活性炭吸附塔和排放塔依次收尾相接联通设置;所述洗涤罐的底部设置有进气口,顶部设置有排气口,罐体中装有洗涤液;所述洗涤罐内的进气口上安装有鼓泡装置;所述洗涤罐包括了一级处理罐和二级处理罐,一级处理罐中的洗涤液为水,二级处理罐中的洗涤液为碱性溶液。有益效果在于:洗涤液使用低浓度碱液即可,洗涤罐在使用过程中不需要维护,相较喷淋净化塔设备成本低;能够最大限度的净化废气,并且所用洗涤液所产生的洗涤废液少,废液处理简单成本低。
技术领域
本发明属于废气处理技术领域,尤其涉及半导体行业硅料、硅芯、硅片酸洗环节产生的废气处理处理装置。
背景技术
在半导体行业中,多晶硅原料酸洗或单晶硅样片酸洗等生产过程均会产生氮氧化物一类的废气,氮氧化物与空气中的水结合很容易形成酸雨,并且与其他污染物在一定条件下能产生光化学烟雾污染,对人体健康、生态系统和建筑设施都有直接和潜在的危害。所以为了降低生产对环境的危害,在半导体行业中,对硅原料的加工过程尤其是酸洗过程,采用废气回收净化处理再排放的生产过程。
现有的氮氧化物处理按照净化作用原理的不同,可分为催化还原法、吸收和吸附三类,其中吸收法是最常见的处理方法,吸收法是用水或酸、碱、盐的水溶液来吸收废气中的氮氧化合物从而使废气得以净化的方法,现有的企业一般采用多级碱液喷淋氮氧化物气体的方式对废气进行净化处理,但是处理效果并不理想,设备运行一段时间后,外排气体中还是存在一定浓度的氮氧化物气体,无法满足企业的废气排放要求。造成上述问题的主要缺陷在于,碱液浓度过高情况下会产生结晶,喷淋喷头容易堵塞,降低了对气体的净化效果,为了保证净化效果需要定期频繁的清洗更换设备,工作量大成本高,并且此种净化方式所产生的废水量较大,处理成本过高。
发明内容
本发明的目的是为了解决半导体硅原料在加工过程中废气处理效果差成本高的问题,提供一种利用吸收法处理生产废气的氮氧化物废气处理装置。
为了实现上述目的,本发明所采用的技术方案是利用洗涤罐将废气通入洗涤液中对废气中的氮氧化物进行吸收处理;洗涤罐中设置鼓泡装置,利用气压将废气通过鼓泡装置通入洗涤液中,使废气中的氮氧化物与洗涤液得到充分接触;采用二次洗涤处理的方式,利用水和碱性溶液对废气进行洗涤,最后可得到酸性水溶液和碱性溶液的处理废水,方便对洗涤废水进行处理。
本发明氮氧化物废气处理装置,包括了收气装置、洗涤罐、活性炭吸附塔和排放塔,所述收气装置、洗涤罐、活性炭吸附塔和排放塔依次收尾相接联通设置;所述洗涤罐的底部设置有进气口,顶部设置有排气口,罐体中装有洗涤液;所述洗涤罐内的进气口上安装有鼓泡装置,鼓泡装置上覆盖有透气颗粒;所述鼓泡装置由通气盘管和鼓泡管组成,通气盘管沿洗涤罐底部固定布设,鼓泡管沿通气盘管竖直均匀布设,沿鼓泡管的管壁上均匀开设鼓泡孔。
所述洗涤罐包括了一级处理罐和二级处理罐,一级处理罐中的洗涤液为水,二级处理罐中的洗涤液为碱性溶液。
所述洗涤罐中的鼓泡装置浸没在洗涤液中。
所述透气颗粒为不规则球状,采用耐酸碱材料制成,如聚四氟乙烯材料材料。
所述鼓泡装置的通气盘管呈螺旋状设置。
所述洗涤罐中进气口处安装增压风机。
本发明的有益效果在于:洗涤液使用低浓度碱液即可,洗涤罐在使用过程中不需要维护,相较喷淋净化塔设备成本低;能够最大限度的净化废气,并且所用洗涤液所产生的洗涤废液少,废液处理简单成本低。
附图说明
附图1为本发明的结构示意图;
附图2为本发明的洗涤罐内部鼓泡装置结构示意图;
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