[发明专利]一种激光抛光设备

说明书

本发明公开了一种激光抛光设备，包括机架，以及设置在机架上的上料装置、激光抛光装置、下料装置和氩气供应装置，上料装置和下料装置分别位于激光抛光装置的两侧；激光抛光装置包括抛光密封工作室，以及设置抛光密封工作室内的双轴变位机和激光振镜，上料装置包括上料密封工作室，以及设置在上料密封工作室内的上料驱动机构、上料电动门一和上料电动门二；下料装置包括下料密封工作室，以及设置在下料密封工作室内的下料驱动机构、下料电动门一和下料电动门二，氩气供应装置用于为抛光密封工作室、上料密封工作室和下料密封工作室内提供氩气。本发明一种激光抛光设备，其结构合理，有效隔离外界空气的干扰，提高了氩气保护的效果。

技术领域

本发明涉及一种激光抛光设备。

背景技术

激光抛光技术是伴随着激光技术的发展而出现的一种对新型材料表面进行处理的技术，它通过采用激光光束扫描加工工件表面，利用激光与材料之间的相互作用，去掉工件表面多余物质，从而形成光滑平面。目前，传统的激光抛光设备大多会在氩气保护气氛下对工件进行激光抛光，但是，现有的激光抛光设备在对工件进行上料和下料的过程中，外界的空气会进入抛光工作室从而会影响氩气保护的效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种激光抛光设备，其结构合理，有效隔离外界空气的干扰，提高了氩气保护的效果。

为实现上述目的，本发明的技术方案是设计一种激光抛光设备，包括机架，以及设置在机架上的上料装置、激光抛光装置、下料装置和氩气供应装置，所述上料装置和下料装置分别位于激光抛光装置的两侧；

所述激光抛光装置包括抛光密封工作室，以及设置抛光密封工作室内的双轴变位机和激光振镜，所述双轴变位机包括回转工作台，该回转工作台上设有第一安装槽，该第一安装槽中安装有通电后可产生磁性的第一电磁吸块；

所述上料装置包括上料密封工作室，以及设置在上料密封工作室内的上料驱动机构、上料电动门一和上料电动门二，所述上料密封工作室的顶部设有上料口一，所述上料电动门一用于打开或封闭上料口一，所述上料密封工作室的一端延伸至抛光密封工作室内并设有上料口二，所述上料电动门二用于打开或封闭上料口二，所述上料驱动机构包括上料基板、设置在上料基板侧部的上料导轨，以及滑动连接于上料导轨的上料平移板，该上料平移板的侧部设有上料板，该上料板的上表面与回转工作台的上表面齐平，且该上料板上设有第二安装槽，该第二安装槽中安装有通电后可产生磁性的第二电磁吸块；

所述下料装置包括下料密封工作室，以及设置在下料密封工作室内的下料驱动机构、下料电动门一和下料电动门二，所述下料密封工作室的一端延伸至抛光密封工作室内并设有下料口一，所述下料电动门一用于打开或封闭下料口一，所述下料密封工作室的顶部设有下料口二，所述下料电动门二用于打开或封闭下料口二，所述下料驱动机构包括下料基板、设置在下料基板侧部的下料导轨，以及滑动连接于下料导轨的下料平移板，该下料平移板的侧部设有下料板，该下料板的上表面与回转工作台的上表面齐平，且该下料板上设有第三安装槽，该第三安装槽中安装有通电后可产生磁性的第三电磁吸块；

所述氩气供应装置包括用于为抛光密封工作室、上料密封工作室和下料密封工作室内提供氩气的气罐，所述抛光密封工作室上设有第一氩气入口，所述上料密封工作室上设有第二氩气入口，所述下料密封工作室上设有第三氩气入口，所述气罐分别通过管道与第一氩气入口、第二氩气入口和第三氩气入口连接；

所述激光抛光设备还包括电动门控制器，所述上料电动门一、上料电动门二、下料电动门一和下料电动门二分别与电动门控制器电性连接。

优选的，所述上料基板与上料密封工作室的内壁固定连接，该上料基板延伸至上料口二处，所述上料电动门二设有用于避让上料基板的避让缺口。

优选的，所述下料基板与下料密封工作室的内壁固定连接，该下料基板延伸至下料口一处，所述下料电动门一设有用于避让下料基板的避让缺口。