[发明专利]宽谱线大视场物镜系统有效

专利信息
申请号: 201911392564.3 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN113126244B 公开(公告)日: 2022-09-30
发明(设计)人: 刘鹏 申请(专利权)人: 张家港中贺自动化科技有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00
代理公司: 苏州国诚专利代理有限公司 32293 代理人: 杨淑霞
地址: 215614 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 宽谱线大 视场 物镜 系统
【说明书】:

发明提供一种宽谱线大视场物镜系统,其包括:第一成像镜头以及至少一个第二成像镜头;各成像镜头依次设置,任一成像镜头对应一像面,来自所述照明单元的光束依次经第一成像镜头以及至少一个第二成像镜头成像后逐级放大,所述第一成像镜头包括依次设置的:第一成像镜组、第二成像镜组以及第三成像镜组,所述第二成像镜头包括依次设置的:第四成像镜组、成像孔径光阑、第二正光焦度的子镜组。本发明的宽谱线大视场物镜系统适于在200nm至450nm的深紫外波长范围使用,其通过设置第一成像镜头以及至少一个第二成像镜头,具有提高放大倍率,并缩短整个系统长度,节省空间的效果。

技术领域

本发明涉及光学技术领域,尤其涉及一种宽谱线大视场物镜系统。

背景技术

LDSI(大规模集成电路)的半导体领域中,以光刻技术为核心的微细加工制造的技术难度最大。在LDSI的研发和制造过程中,需要对多种不同特性材质的高精细线路图形等实施多道高精度的光学检测,而且在制造现场还有高稳定性和高速检测的需求。由于各类光学检测的信息量非常大,所以超大视野,高分辨率,及包括紫外波段在内的宽谱线的光学检测系统应运而生,而且需求日益增强

随着半导体芯片及器件的集成密度提高,要求光学检测系统具有更高的光学分辨率。决定光学分辨率主要因素是光波波长和数值孔径,所以为了提高光学检测系统的分辨率,光学系统的照明光源的波长范围日益变短,如近紫外光甚至是深紫外光;检测物镜的数值孔径日益增大,趋近极限。在紫外波长区域,尤其是200nm至450nm的深紫外波长区域,普通光学材料的吸收很大,透光率很低,适用的光学材料受到很大限制,所以包括紫外波段在内的宽谱线、大视场和高分辨率的光学系统的设计和制造变得非常困难。由于针对上述问题的解决方案十分有限,所以急需提出切实的解决方案。

发明内容

本发明旨在提供一种宽谱线大视场物镜系统,以克服现有技术中存在的不足。

为解决上述技术问题,本发明的技术方案是:

一种宽谱线大视场物镜系统,其包括:第一成像镜头以及至少一个第二成像镜头;

各成像镜头依次设置,任一成像镜头对应一像面,来自所述照明单元的光束依次经第一成像镜头以及至少一个第二成像镜头成像后逐级放大,所述第一成像镜头包括依次设置的:第一成像镜组、第二成像镜组以及第三成像镜组,所述第二成像镜头包括依次设置的:第四成像镜组、成像孔径光阑、第五成像镜组;

所述第一成像镜组和第二成像镜组满足关系式:0.35<f1/f2<1.5,第二成像镜组和第三成像镜组满足关系式:0.22<f3/(f2×β)<0.8;

其中,f2为第二成像镜组的组合焦距,f3为第三成像镜组的组合焦距,β为第一成像镜头的放大倍率。

所述成像孔径光阑处选择性地插入有不同的光瞳滤波器;

来自物面的光束依次经过所述第一成像镜组、第二成像镜组、第三成像镜组形成第一像面,所述第一像面处设置视场光阑,视场光阑通光口径与物方视野FOV尺寸相对应。

作为本发明的宽谱线大视场物镜系统的改进,所述第一成像镜组包括由物面侧指向像面侧的:第一片复合透镜、第二片透镜、第三片反射镜;所述第一片复合透镜的物面侧曲面包括一个反射面,第一片复合透镜的物面侧曲面的中央部分是透过面,其周围部分为朝向像方的反射面;所述第三反射镜物面侧曲面为一个凹反射面,且第三片反射镜为中央开有通孔可以允许光束穿过。

作为本发明的宽谱线大视场物镜系统的改进,来自所述物面的光束经所述第一成像镜组后形成中间像,所述中间像形成于第三片反射镜的中央通孔附近;

所述第一成像镜组满足关系式:|f1/R2|<0.35,|f1/R3|<0.8;其中,f1为第一成像镜组的组合焦距,R2为物面侧第一复合透镜的像面侧曲面的曲率半径,R3为物面侧第二片透镜的物面侧曲面的曲率半径。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于张家港中贺自动化科技有限公司,未经张家港中贺自动化科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911392564.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top