[发明专利]衣物处理设备在审
申请号: | 201911346072.0 | 申请日: | 2019-12-24 |
公开(公告)号: | CN111519382A | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 李吉龙;金骏映;李洪旻 | 申请(专利权)人: | LG电子株式会社 |
主分类号: | D06F21/10 | 分类号: | D06F21/10;D06F37/06 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 张美芹;刘久亮 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 衣物 处理 设备 | ||
1.一种衣物处理设备,该衣物处理设备包括:
滚筒,其构造成接收衣物并绕在前后方向上延伸的旋转轴线旋转;和
提升器,其布置在所述滚筒的内周表面上,
其中,所述提升器包括:
提升器框架,其联接至所述滚筒;和
框架盖,其构造成覆盖所述提升器框架,
其中,所述提升器框架包括:
框架基座,其固定至所述滚筒的所述内周表面;
框架上板,其在朝向所述滚筒的内部的方向上与所述框架基座间隔开;
框架侧壁,其构造成连接所述框架上板和所述框架基座;以及
间隔件,其从所述框架上板朝向所述框架盖的内表面突出,以使得所述框架盖的所述内表面与所述框架上板间隔开。
2.根据权利要求1所述的衣物处理设备,其中,所述框架盖包括盖上板,所述盖上板的内表面面向所述框架上板,并且所述间隔件与所述盖上板的所述内表面间隔开。
3.根据权利要求1所述的衣物处理设备,其中,所述框架盖包括盖上板,所述盖上板的内表面面向所述框架上板,并且所述间隔件与所述盖上板的所述内表面接触。
4.根据权利要求1所述的衣物处理设备,其中,所述滚筒具有至少一个水流入口孔,所述水流入口孔形成在被所述框架盖覆盖的区域中。
5.根据权利要求4所述的衣物处理设备,其中:
所述框架盖具有在面对所述框架上板的盖上板中形成的至少一个水流排出孔,经由所述水流入口孔引入的洗涤水经由该水流排出孔排出到所述滚筒中;并且
所述间隔件使得所述盖上板与所述框架上板间隔开。
6.根据权利要求5所述的衣物处理设备,其中,所述至少一个水流入口孔位于所述提升器框架的内部,并且所述提升器框架具有至少一个水流通过孔,所述至少一个水流通过孔构造成使得所述提升器框架的内部和外部彼此连通。
7.根据权利要求5所述的衣物处理设备,其中,所述至少一个水流排出孔分别形成在沿所述盖上板的纵向方向彼此间隔开的多个区域中,并且所述间隔件分别定位在所述多个区域之间。
8.根据权利要求1所述的衣物处理设备,其中,所述框架盖具有在与所述间隔件相对应的位置处形成的拱顶,所述拱顶的面向所述间隔件的内表面凹入地形成为凹入部,并且所述间隔件的至少一部分位于所述拱顶的所述内表面的所述凹入部中。
9.根据权利要求8所述的衣物处理设备,其中,所述间隔件与所述拱顶的所述凹入部间隔开。
10.根据权利要求8所述的衣物处理设备,其中,所述间隔件与所述拱顶的所述凹入部接触。
11.根据权利要求8所述的衣物处理设备,其中,所述拱顶的外表面是凸的。
12.根据权利要求8所述的衣物处理设备,其中,在所述提升器的纵向方向上布置有多个拱顶,并且所述间隔件分别形成在与所述多个拱顶相对应的位置处。
13.根据权利要求12所述的衣物处理设备,其中,所述多个拱顶包括:
大拱顶,其内表面的所述凹入部具有第一深度;和
小拱顶,其内表面的所述凹入部具有小于所述第一深度的第二深度,并且
其中,对应于所述大拱顶的所述间隔件的高度大于对应于所述小拱顶的所述间隔件的高度。
14.根据权利要求13所述的衣物处理设备,其中,在所述提升器的纵向方向上布置有一对大拱顶,并且所述小拱顶布置在所述一对大拱顶之间。
15.根据权利要求12所述的衣物处理设备,其中,所述框架盖具有形成在所述多个拱顶之间的水流排出孔。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG电子株式会社,未经LG电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911346072.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种数字资产异地隔离托管系统和方法
- 下一篇:切换先行关联预备支持方法和系统