[发明专利]用于放射治疗设备的射束阻挡器

权利要求书

1.一种放射治疗系统，包括：

第一转动支撑装置，其被配置为支撑辐射束源并且使辐射束源绕转动轴线转动；

第二转动支撑装置；以及

辐射屏蔽装置，其被安装至所述第二转动支撑装置，其中，所述第二转动支撑装置被配置为使所述辐射屏蔽装置绕所述转动轴线转动。

2.根据权利要求1所述的放射治疗系统，其特征在于，还包括：

辐射束源，其被安装至所述第一转动支撑装置。

3.根据权利要求2所述的放射治疗系统，其特征在于，所述辐射束源被配置为发射指向所述转动轴线的辐射束。

4.根据前述权利要求中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，所述辐射屏蔽装置被配置为能够独立于所述辐射束源的转动而绕所述转动轴线转动。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，所述辐射屏蔽装置被配置为与所述辐射束源的转动同步地绕所述转动轴线转动。

6.根据权利要求5所述的放射治疗系统，其特征在于，还包括：

转动联接系统，其被配置为将所述辐射束源的转动与所述辐射屏蔽装置的转动机械地联接，以使：

所述辐射屏蔽装置的转动驱动所述辐射束源的转动；或

所述辐射束源的转动驱动所述辐射屏蔽装置的转动。

7.根据前述权利要求中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，还包括：

转动驱动系统，其被配置为驱动所述辐射束源和所述辐射屏蔽装置中的一个绕所述转动轴线转动。

8.根据权利要求7所述的放射治疗系统，其特征在于，还包括：

控制系统，其被配置为在所述辐射束源绕所述转动轴线转动时控制所述辐射屏蔽装置的转动，以使所述辐射屏蔽装置相对于所述辐射束源保持在固定位置。

9.根据权利要求7或8所述的放射治疗系统，其特征在于，所述控制系统被配置为控制所述辐射屏蔽装置的转动，使得在所述辐射束源绕所述转动轴线转动时所述辐射屏蔽装置始终在由所述辐射束源发射的辐射束的路径上。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，所述控制系统被配置为控制所述辐射屏蔽装置的转动，使得在所述辐射束源绕所述转动轴线转动时所述辐射屏蔽装置始终与所述辐射束源在直径上相对。

11.根据权利要求6至8中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，还包括：

第一转动驱动系统，其被配置为驱动所述辐射束源的转动；以及

第二转动驱动系统，其被配置为驱动所述辐射屏蔽装置的转动；

其中，所述控制系统被配置为控制所述第一转动驱动系统和所述第二转动驱动系统之一者或二者。

12.根据前述权利要求中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，所述辐射束源绕所述转动轴线的转动使所述辐射屏蔽装置沿第一曲线路径行进，所述第一曲线路径沿着以所述转动轴线为中心的圆的圆周的至少一部分；所述辐射屏蔽装置绕所述转动轴线的转动使所述辐射屏蔽装置沿第二曲线路径行进，所述第二曲线路径沿着以所述转动轴线为中心的圆的圆周的至少一部分。

13.根据前述权利要求中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，所述第二转动支撑装置包括可转动台架，并且所述辐射屏蔽装置被固定至所述可转动台架，所述可转动台架被配置为绕穿过该可转动台架的中心的所述转动轴线转动。

14.根据权利要求13所述的放射治疗系统，其特征在于，还包括：

固定台架，其具有中心孔，所述中心孔可操作地接收所述第二转动支撑装置的所述可转动台架，其中，所述可转动台架被可转动地安装在所述固定台架的所述中心孔内，并且被配置为相对所述固定台架转动。