[发明专利]样本分析装置的状态报知方法及样本分析系统在审

专利信息
申请号: 201911261951.3 申请日: 2019-12-10
公开(公告)号: CN111308106A 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 中野洸辉;八尾俊佑;梶野祥平;才野崇广;黑岩知弘 申请(专利权)人: 希森美康株式会社
主分类号: G01N35/00 分类号: G01N35/00
代理公司: 北京市安伦律师事务所 11339 代理人: 杨永波
地址: 日本兵库县神户市*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 样本 分析 装置 状态 报知 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种样本分析装置的状态报知方法,其包括以下步骤:

检测分析样本的样本分析装置的状态;

根据所述样本分析装置的检测状态向上方照射光。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:

在检测到所述样本分析装置的检测状态为一定状态时进行照射。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:

一定状态包括样本分析中使用的试剂的余量变为一定量以下的状态。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:

根据样本分析装置检测状态的变化,停止向上方照射光。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于:

当停止向上方照射光时从侧向发射光。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:

所述照射包括根据所述样本分析装置的检测状态照射某种颜色的光。

7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于:

所述包括根据所述样本分析装置的检测状态发射某种颜色的光。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于:

根据所述样本分析装置的检测状态,改变向上照射的所述光的颜色和侧向发射的所述光的颜色的组合。

9.一种样本分析系统,其具备:

样本分析装置,其被配置为用于分析样本;

报知装置,其包括向上方照射光的照射部,以及控制所述照射部使其按照所述样本分析装置的状态向上方照射光的控制部。

10.根据权利要求9所述的样本分析系统,其特征在于:

所述照射部包括被配置为用于向上方照射光的光学系统。

11.根据权利要求10所述的样本分析系统,其特征在于:

所述报知装置包括被配置为收纳所述光学系统的壳体,

所述壳体在上侧面具有供所述光向上方照射的照射窗口。

12.根据权利要求11所述的样本分析系统,其特征在于:

所述壳体安放被配置为改变从所述照射窗口通过的光的颜色的滤色镜,且滤色镜能更换。

13.根据权利要求9所述的样本分析系统,其特征在于:

所述控制部被配置为根据样本分析装置的状态的变化来控制所述照射部以停止光的照射。

14.根据权利要求9所述的样本分析系统,其特征在于:

所述控制部被配置为当所述样本分析装置处于一定状态时,控制所述照射部向上方照射光。

15.根据权利要求14所述的样本分析系统,其特征在于:

所述样本分析装置包括被配置为检测样本分析中使用的试剂余量的传感器,

所述一定状态包括所述传感器检测到所述试剂余量变为一定量以下的状态。

16.根据权利要求9所述的样本分析系统,其特征在于:

所述报知装置包括被配置为用于侧向发光的发光部,

所述控制部被配置为根据所述样本分析装置的状态控制所述发光部进行侧向发光。

17.根据权利要求16所述的样本分析系统,其特征在于:

所述控制部被配置为根据所述样本分析装置的状态,控制所述照射部使其停止照射光,并控制所述发光部使其发出光。

18.根据权利要求16所述的样本分析系统,其特征在于:

所述控制部被配置为根据所述样本分析装置的状态控制所述发光部使其改变颜色。

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