[发明专利]结构色颜料光学薄膜厚度的监测方法以及镀膜机

权利要求书

1.一种结构色颜料光学薄膜厚度的监测方法，其特征在于，所述监测方法包括：

在镀膜机上安装石英晶体监控系统和简易光学监控系统；

利用所述石英晶体监控系统对所述结构色颜料光学薄膜中各膜层的物理厚度进行全程监控；

设定生产过程中需要所述简易光学监控系统监控的预设膜层；

在开始制备所述预设膜层时，若所述简易光学监控系统监测到所述预设膜层的光学厚度达到时，则停止所述预设膜层的制备，并获取所述石英晶体监控系统监测到的所述预设膜层的物理厚度d，进而按照如下公式一更新折射率n，

公式一：其中，λ、d为所述预设膜层对应的监控波长、物理厚度；

获取材料与所述预设膜层的材料相同的其他各膜层的光学厚度并按照如下公式二更新所述其他各膜层的物理厚度d′，进而在所述镀膜机制备材料与所述预设膜层材料相同的膜层时，所述石英晶体监控系统以更新后的所述物理厚度d′对膜层厚度进行监控，

公式二：其中，λ′、d′分别为材料与所述预设膜层材料相同的膜层各自对应的监控波长、物理厚度。

2.根据权利要求1所述的监测方法，其特征在于，所述结构色颜料光学薄膜包括层叠设置的多个重复单元，所述重复单元包括层叠设置的多层膜层；

所述设定生产过程中需要所述简易光学监控系统监控的预设膜层的步骤，包括：

设定所述多个重复单元中按照预设间隔排列的重复单元为预设重复单元；

设定所述预设重复单元中的若干膜层为所述预设膜层。

3.根据权利要求1所述的监测方法，其特征在于，所述结构色颜料光学薄膜包括层叠设置的多个重复单元，所述重复单元包括层叠设置的多层膜层；

所述设定生产过程中需要所述简易光学监控系统监控的预设膜层的步骤，包括：

设定生产过程中按照预设时间间隔制备的重复单元为预设重复单元；

设定所述预设重复单元中的若干膜层为所述预设膜层。

4.根据权利要求2或3所述的监测方法，其特征在于，所述设定所述预设重复单元中的若干膜层为所述预设膜层的步骤，包括：

设定所述预设重复单元中材料均不相同的膜层为所述预设膜层，其中，所述预设重复单元中所述预设膜层的层数与所述预设重复单元中膜层种类的个数相等。

5.根据权利要求2或3所述的监测方法，其特征在于，在所述预设重复单元中，按照制备的先后顺序将前四层膜层分别定义为第一膜层、第二膜层、第三膜层以及第四膜层；

所述设定所述预设重复单元中的若干膜层为所述预设膜层的步骤，包括：

分别设定所述第三膜层和所述第四膜层为所述预设膜层。

6.根据权利要求1所述的监测方法，其特征在于，所述开始制备所述预设膜层的步骤，包括：

在开始制备所述预设膜层时，将所述镀膜机切换为手动操作模式；

在所述手动模式下开始制备所述预设膜层，并控制所述石英晶体监控系统以及所述简易光学监控系统同时监测所述预设膜层的厚度。

7.根据权利要求6所述的监测方法，其特征在于，在所述更新所述膜层各自的物理厚度d_i之后，还包括：

将所述镀膜机切换为自动操作模式，以制备所述结构色颜料光学薄膜中的其他膜层，并控制所述石英晶体监控系统监控所述其他膜层的制备。

8.根据权利要求1所述的监测方法，其特征在于，在所述开始制备所述预设膜层之前，还包括：

为所述简易光学监控系统更换新的比较片。

9.根据权利要求1所述的监测方法，其特征在于，所述更新折射率n的步骤，包括：

若所述石英晶体监控系统监测到的所述预设膜层的物理厚度与预先保存的对应所述预设膜层的物理厚度之间的差值大于差值阈值，则按照所述公式一更新所述折射率。

10.一种镀膜机，其特征在于，包括：

镀膜机主体，用于制备结构色颜料光学薄膜；

石英晶体监控系统，用于监控所述结构色颜料光学薄膜中所有膜层的物理厚度；

简易光学监控系统，用于监控所述结构色颜料光学薄膜中预设膜层的光学厚度；

其中，在所述镀膜机主体开始制备所述预设膜层时，若所述简易光学监控系统监测到所述预设膜层的光学厚度达到则所述镀膜机主体停止所述预设膜层的制备，并获取所述石英晶体监控系统监测到的所述预设膜层的物理厚度d，进而按照如下公式一更新折射率n，公式一：其中，λ、d为所述预设膜层对应的监控波长、物理厚度；而后所述镀膜机主体获取材料与所述预设膜层的材料相同的其他各膜层的光学厚度并按照如下公式二更新所述其他各膜层的物理厚度d′，进而在所述镀膜机主体制备材料与所述预设膜层材料相同的膜层时，所述石英晶体监控系统以更新后的所述物理厚度d′对膜层厚度进行监控，公式二：其中，λ′、d′分别为材料与所述预设膜层材料相同的膜层各自对应的监控波长、物理厚度。