[发明专利]一种旋转中子发生靶

说明书

本发明提出了一种旋转中子发生靶，包括靶托，所述的靶托为圆形，靶托的后侧连接有旋转轴杆，旋转轴杆与靶托同轴设置，还包括圆环形的靶，靶固定安装在靶托的前侧面上，靶与靶托同轴设置，所述的靶托内对应靶的区域设有冷却流道，冷却流道整体为环形且是断开设置形成两个端口，该两个端口分别为进液口和出液口，所述的冷却流道为连续波浪状起伏设置，靶托内还设有容液屏蔽室，容液屏蔽室位于冷却流道的后侧，所述的进液口与容液屏蔽室连接，所述的旋转轴杆上沿其长度方向设有进液通道和出液通道，进液通道与容液屏蔽室连通，出液通道与出液口连通。

技术领域

本发明涉及一种旋转中子发生靶。

背景技术

传统的中子发生靶都是固定式结构，位置不可移动，该种中子靶受激光照射面积也小，所以在使用寿命和产生中子量方面也会受到限制。中子都是需要设置在屏蔽室内，目前中子靶发生的中子都是无规律发散式的，而中子的出射又是需要固定的，所以无规律发散式的中子束需要屏蔽室来进行屏蔽隔离，这样对屏蔽室的建设要求就很高。

发明内容

针对背景技术中指出的问题，本发明提出一种旋转中子发生靶，以提高靶的使用寿命和产生中子量，且靶结构自身具有中子屏蔽慢化能力及良好的冷却能力，可在非中子出射方向来对中子进行屏蔽和慢化。

本发明的技术方案是这样实现的：

一种旋转中子发生靶，包括靶托，所述的靶托为圆形，靶托的后侧连接有旋转轴杆，旋转轴杆与靶托同轴设置，还包括圆环形的靶，靶固定安装在靶托的前侧面上，靶与靶托同轴设置，所述的靶托内对应靶的区域设有冷却流道，冷却流道整体为环形且是断开设置形成两个端口，该两个端口分别为进液口和出液口，所述的冷却流道为连续波浪状起伏设置，靶托内还设有容液屏蔽室，容液屏蔽室位于冷却流道的后侧，所述的进液口与容液屏蔽室连接，所述的旋转轴杆上沿其长度方向设有进液通道和出液通道，进液通道与容液屏蔽室连通，出液通道与出液口连通。

本发明还进一步设置为，所述的靶托的前侧面上设有安置靶的环形的凹槽，所述的容液屏蔽室的截面为U形，容液屏蔽室环绕靶的后侧及旁侧设置。

本发明还进一步设置为，所述的靶为锂或铍。

本发明还进一步设置为，所述的靶托和旋转轴杆由铝材制成。

本发明还进一步设置为，所述的靶托的后侧面上设有散热片，所述的散热片由铝材制成。

采用了上述技术方案，本发明的有益效果为：

(1)、靶面积大，且可通过旋转来对环形的靶的所有区域进行激光照射来产生中子，提高了靶的使用寿命和产生中子量；

(2)、连续波浪状起伏设置的冷却流道具有良好的冷却效果；

(3)、容液屏蔽室内充满冷却液(水)后可起到慢化和屏蔽中子的作用，同时也具有对靶和靶托进行冷却的作用；

(4)靶托的后侧面上设置的散热片也具有对靶托进行散热的作用；

(5)容液屏蔽室设计成环绕靶的后侧及旁侧设置，使的靶发生的中子只能向其前侧发射，其他方向发散的中子则会被容液屏蔽室内的冷却液(水)慢化屏蔽掉。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的正视图；

图2为本发明的后视图；

图3为本发明的剖视图；

图4为本发明冷却流道的结构示意图；