[发明专利]一种窄带滤光片光谱的调控方法有效
申请号: | 201911146781.4 | 申请日: | 2019-11-21 |
公开(公告)号: | CN110837145B | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
发明(设计)人: | 姜玉刚;陈丹;刘华松;姜承慧;刘丹丹 | 申请(专利权)人: | 天津津航技术物理研究所 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G01J3/00;G01M11/02 |
代理公司: | 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 | 代理人: | 王雪芬 |
地址: | 300308 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 窄带 滤光 光谱 调控 方法 | ||
1.一种窄带滤光片光谱的调控方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)制备窄带滤光片;
2)对制备的窄带滤光片光谱进行测试;
3)选择热处理工艺参数,并对窄带滤光片进行热处理;
4)对热处理后的窄带滤光片光谱进行测试;
5)根据技术要求,选择合适的热处理工艺参数,使得窄带滤光片光谱特性满足技术要求;
步骤1中,选择离子束溅射沉积技术,在熔融石英或玻璃基底上制备窄带滤光片,中心波长为λi,单位为nm,带宽为Dj,单位为nm,其中λi范围为300nm-2000nm,Dj范围为1~100nm;
步骤2中,采用分光光度计对制备的窄带滤光片光谱进行测试,中心波长为λ1,带宽为D1;
步骤3中,对窄带滤光片进行热处理的工艺参数为:热处理温度为Tk的范围为20℃到500℃,热处理时间Hm的范围为2h~48h;
步骤4中,采用分光光度计对热处理后的窄带滤光片光谱进行测试,中心波长为λ2,带宽为D2;
步骤1中,在熔融石英基底上一面制备365nm窄带滤光薄膜,在另一面制备365nm短波通;
步骤2中,采用分光光度计,对制备的365nm窄带滤光片透射光谱进行测试,中心波长为362.3nm,带宽为8.5nm;
步骤3中,采用大气热处理的方式对窄带滤光片进行热处理,选择热处理温度点为150℃、200℃、250℃、300℃和350℃,每个温度点的退火时间为12h,从常温到退火温度点的升温时间为2h,保温12h后自然降低到常温;
步骤4中,经过每个热处理温度点处理后,采用分光光度计对其透过率光谱进行测量,从不同退火温度条件下透过率测试曲线获得窄带滤光片的中心波长和带宽,得到365nm窄带滤光片中心波长与温度之间的关联性,365nm窄带滤光片半高宽与温度之间的关联性,随着热处理温度的升高,365nm窄带滤光片中心波长逐渐红移,当经过350℃热处理后,中心波长红移了2.9nm,随着热处理温度的升高,365nm窄带滤光片带宽逐渐变大,当经过350℃热处理后,带宽从8.53nm变化到8.87nm。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤5中,选择合适的退火温度点,获得需要的窄带滤光片光谱特性。
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