[发明专利]用于波束成形天线的天线组件以及基站天线在审

专利信息
申请号: 201911073578.9 申请日: 2019-11-06
公开(公告)号: CN112768878A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 张讯 申请(专利权)人: 康普技术有限责任公司
主分类号: H01Q1/36 分类号: H01Q1/36;H01Q1/48;H01Q1/50;H01Q1/52;H01Q9/16;H01Q19/10;H01Q21/00;H01Q21/08;H01Q21/29;H01Q21/30
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 楼震炎
地址: 美国北卡*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 波束 成形 天线 组件 以及 基站
【权利要求书】:

1.一种用于波束成形天线的天线组件,包括反射体和天线阵列,所述天线阵列包括多个竖直延伸阵列,其特征在于,所述多个竖直延伸阵列包括:

多个第一辐射元件,设置为竖直延伸阵列的第一阵列,所述第一辐射元件从反射体向前延伸;

多个第二辐射元件,设置为竖直延伸阵列的第二阵列,所述第二辐射元件从反射体向前延伸;

其中,竖直延伸阵列的第一阵列和第二阵列在水平方向上彼此相邻,并且两个相邻的第一辐射元件彼此以第一间距间隔开,并且一个第一辐射元件与一个相邻的第二辐射元件彼此以第二间距间隔开,其中,第一间距基本上等于第二间距,

其中,所述天线组件还包括多个用于天线阵列的寄生元件,所述寄生元件沿着竖直延伸阵列的第一阵列和第二阵列的侧旁布置、在相邻的第一辐射元件之间布置以及在相邻的第二辐射元件之间布置,其中,寄生元件中的一个寄生元件比寄生元件中的另一个寄生元件更远地从反射体向前延伸,所述一个寄生元件相比于所述另一个寄生元件更靠近天线阵列的中间。

2.根据权利要求1所述的用于波束成形天线的天线组件,其特征在于,在反射体前向上以三种或更多种不同的距离安装寄生元件,其中,在竖直延伸阵列的第一阵列和第二阵列之间的至少一些寄生元件相比于不在竖直延伸阵列的第一阵列和第二阵列之间的至少一些寄生元件被安装得更远离反射体。

3.根据权利要求1或2所述的用于波束成形天线的天线组件,其特征在于,寄生元件在水平和/或竖直方向上从天线阵列中间区域朝向外侧区域下降多次;和/或

各第二辐射元件相对于各第一辐射元件在竖直方向上错开;和/或

在每个第一辐射元件和每个第二辐射元件的周围均设有寄生元件。

4.根据权利要求1至3之一所述的用于波束成形天线的天线组件,其特征在于,所述寄生元件还包括多个竖直延伸的第一寄生元件,各第一寄生元件分别布置在第一辐射元件的水平方向的两侧并且分别布置在第二辐射元件的水平方向的两侧;和/或

根据在第一寄生元件所处位置中的耦合干扰强度来设定第一寄生元件在反射体的前向上的距离;和/或

第一寄生元件在反射体的前向上的距离从天线阵列中间区域朝向外侧区域下降一次或多次;和/或

所述寄生元件还包括多个水平延伸的第二寄生元件,各第二寄生元件分别布置在第一辐射元件的竖直方向的两侧并且分别布置在第二辐射元件的竖直方向的两侧;和/或

根据在第二寄生元件所处位置中的耦合干扰强度来设定第二寄生元件在反射体的前向上的距离;和/或

第二寄生元件在反射体的前向上的距离从天线阵列中间区域朝向外侧区域下降一次或多次。

5.根据权利要求1至4之一所述的用于波束成形天线的天线组件,其特征在于,所述多个竖直延伸阵列还包括:多个第三辐射元件,设置为竖直延伸阵列的第三阵列;其中,竖直延伸阵列的第一阵列、竖直延伸阵列的第二阵列和竖直延伸阵列的第三阵列依次在水平方向上布置,其中,以一个第二辐射元件为中心,在与该中心相邻的两个第一辐射元件、与该中心相邻的两个第二辐射元件和与该中心相邻的两个第三辐射元件共同围成一个基本上正六边形的形状。

6.一种用于波束成形天线的天线组件,包括反射体和天线阵列,所述天线阵列包括多个竖直延伸阵列,其特征在于,所述多个竖直延伸阵列包括:

多个第一辐射元件,设置为竖直延伸阵列的第一阵列,所述第一辐射元件从反射体向前延伸;

多个第二辐射元件,设置为竖直延伸阵列的第二阵列,所述第二辐射元件从反射体向前延伸;

其中,竖直延伸阵列的第一阵列和竖直延伸阵列的第二阵列在水平方向上彼此相邻,其中,在相邻的第一辐射元件之间的间距的平均值为第一平均间距,并且在一个第一辐射元件与一个相邻的第二辐射元件之间的间距的平均值为第二平均间距,其中,第一平均间距减去第二平均间距的绝对值小于第一或第二平均间距的10%,

其中,所述天线组件还包括多个用于天线阵列的寄生元件,寄生元件沿着竖直延伸阵列的第一阵列和第二阵列的侧旁布置、在相邻的第一辐射元件之间布置以及在相邻的第二辐射元件之间布置,其中,寄生元件从反射体向前延伸的距离在水平和/或竖直方向上从天线阵列中间区域朝向外侧区域下降一次或多次。

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