[发明专利]光学元件和系统有效
| 申请号： | 201911028604.6 | 申请日： | 2019-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN111103641B | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 塔索·R·M·萨莱斯 | 申请（专利权）人： | 唯亚威通讯技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G02B3/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张瑞;杨明钊 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 元件 系统 | ||
1.一种光学元件，包括：
光学材料的主体；以及
沿着所述主体的表面的多个微结构，其中所述多个微结构中的每个微结构具有凹形剖面；
其中，所述多个微结构包括随机分布的尺寸和凹形剖面；
其中，每个微结构是具有四个外边界的矩形形状，其中所述四个外边界中的每一个朝着所述微结构的中心向内弯曲。
2.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述凹形剖面是s(x)，其中以及R是曲率半径，且k是二次曲线常数。
3.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述多个微结构沿着所述表面随机地分布。
4.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述微结构具有枕形形状。
5.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述多个微结构周期性地分布。
6.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述主体具有彼此相对地定向的两个表面，并且其中所述两个表面中的每一个包括多个微结构。
7.一种光学系统，包括：
光源；以及
光学元件，其具有光学材料的主体和沿着所述主体的表面的多个微结构，其中所述多个微结构中的每个微结构生成提供在视场上的辐照度的超余弦强度剖面；
其中，所述多个微结构包括随机分布的尺寸和凹形剖面；
其中，每个微结构是具有四个外边界的矩形形状，其中所述四个外边界中的每一个朝着所述微结构的中心向内弯曲。
8.根据权利要求7所述的光学系统，其中，所述光源是从垂直腔表面发射激光器、侧发光激光器和发光二极管中选择的发散光源。
9.根据权利要求7所述的光学系统，其中，所述光学系统还包括透镜和传感器。
10.根据权利要求7所述的光学系统，其中，所述超余弦强度剖面由下式表示：
其中，p是表示幂的实数。
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