[发明专利]一种高分子材料表面褶皱结构的构筑方法

权利要求书

1.一种高分子材料表面褶皱结构的构筑方法，其特征在于该方法按以下步骤进行：

一、基体材料的预清洁：将热塑性高分子基体材料进行超声洗涤，然后用高纯氮气吹干，得到清洁后的基体材料；

二、对基体进行辐照处理：将清洁后的基体材料用重离子、电子或质子进行辐照处理，得到辐照后的基体材料；

三、辐照后的基体材料加热至玻璃转化温度T_g以上进行热处理，然后置于空气中冷却，在基体表面构筑出褶皱结构，即完成。

2.根据权利要求1所述的一种高分子材料表面褶皱结构的构筑方法，其特征在于利用无水乙醇或去离子水进行超声洗涤，或用无水乙醇和去离子水交替进行超声洗涤。

3.根据权利要求1所述的一种高分子材料表面褶皱结构的构筑方法，其特征在于热塑性高分子基体材料为聚苯乙烯热缩膜、聚酯热缩膜、聚乙烯热缩膜、聚氯乙烯热缩膜、多层共挤聚烯烃热缩膜、共聚丙烯热缩膜、聚偏二氯乙烯热缩膜或邻苯基苯酚热缩膜。

4.据权利要求1所述的一种高分子材料表面褶皱结构的构筑方法，其特征在于重离子为氩离子、氮离子、氧离子、硅离子、氦离子、铜离子或金离子，能量范围为eV～MeV，通量为1×10⁸cm^-2·s^-1～1×10¹⁴cm^-2·s^-1，注量为1×10¹¹cm^-2～5×10¹⁴cm^-2。

5.根据权利要求1所述的一种高分子材料表面褶皱结构的构筑方法，其特征在于电子辐照的能量范围为eV～MeV，通量为1×10⁸cm^-2·s^-1～1×10¹⁵cm^-2·s^-1，注量为1×10¹²cm^-2～5×10¹⁵cm^-2。

6.根据权利要求1所述的一种高分子材料表面褶皱结构的构筑方法，其特征在于质子辐照的能量范围为eV～MeV，通量为1×10⁸cm^-2·s^-1～1×10¹⁵cm^-2·s^-1，注量为1×10¹²cm^-2～5×10¹⁵cm^-2。

7.根据权利要求1所述的一种高分子材料表面褶皱结构的构筑方法，其特征在于采用干燥箱或马弗炉进行热处理。

8.根据权利要求1所述的一种高分子材料表面褶皱结构的构筑方法，其特征在于热处理温度大于基体玻璃转化点温度且小于熔点。

9.根据权利要求1所述的一种高分子材料表面褶皱结构的构筑方法，其特征在于热处理时间为1s～30min。