[发明专利]一种显示面板氢氟酸清洗装置和氢氟酸清洗方法

说明书

本发明涉及一种显示面板氢氟酸清洗装置，它包括清洗单元，所述清洗单元包括：输送组件，所述显示面板设置于所述输送组件上，所述输送组件的传输速度为可调节设置；喷淋组件，所述喷淋组件用于向所述显示面板上表面喷淋处理液，所述处理液包括氢氟酸。还提供一种显示面板氢氟酸清洗方法，它包括：使显示面板以高速进入喷淋区域并以低速在所述喷淋区域中移动；向所述显示面板上表面喷淋处理液，所述处理液包括氢氟酸。能够提高氢氟酸清洗质量。

技术领域

本发明属于显示面板工艺设备技术领域，涉及一种显示面板氢氟酸清洗装置，还涉及一种显示面板氢氟酸清洗方法。

背景技术

氢氟酸清洗作为LTPS（Low Temperature Poly-silicon，低温多晶硅技术）制程中关键环节，其清洗效果直接影响到TFT器件结构的最终性能、效率与稳定性，关系到最终产品的良品率。氢氟酸清洗不仅要去除有源层表面的杂质而且要使表面钝化，从而减少界面杂质的吸附能力，对表面的洁净度要求非常严格，理论上不允许存在任何颗粒、金属离子、有机粘附、水汽以及氧化层，对表面要求具备原子级的平坦度，保障后制程的工艺可靠性。

发明内容

本发明的目的是要提供一种显示面板氢氟酸清洗装置，能够提高氢氟酸清洗质量。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：

本发明提供了一种显示面板氢氟酸清洗装置，它包括清洗单元，所述清洗单元包括：

输送组件，所述显示面板设置于所述输送组件上，所述输送组件的传输速度为可调节设置；

喷淋组件，所述喷淋组件用于向所述显示面板上表面喷淋处理液，所述处理液包括氢氟酸。

可选地，所述喷淋组件包括喷嘴、储液槽以及泵机构，所述喷嘴为圆形喷嘴，所述储液槽用于存放处理液，所述泵机构连接在所述喷嘴和所述储液槽之间。

可选地，所述喷淋组件包括多个喷嘴，多个所述喷嘴根据喷淋范围被划分为多个区域，单个所述区域的所述喷嘴的喷洒参数被单独控制。

可选地，所述输送组件的传输方向为正方向、反方向可切换设置。

可选地，所述清洗单元包括臭氧水工艺腔室和氢氟酸工艺腔室，所述臭氧水工艺腔室和所述氢氟酸工艺腔室所喷淋的处理液分别为臭氧水和氢氟酸，所述臭氧水工艺腔室和所述氢氟酸工艺腔室之间还设置有水洗工艺腔室。

可选地，它还包括设置在所述清洗单元前序的传送单元，所述传送单元设置在所述清洗单元的上方，所述传送单元与所述清洗单元之间设置有升降单元。

进一步地，所述传送单元中设置有磁力轮和离子棒。

可选地，它还包括设置在所述清洗单元后序的水洗单元，所述水洗单元包括超高压微射流清洗机构和/或二流体洗净机构。

可选地，所述喷嘴为可摆动设置。

本发明还提供一种显示面板氢氟酸清洗方法，它包括：

使显示面板以高速进入喷淋区域并以低速在所述喷淋区域中移动；

向所述显示面板上表面喷淋处理液，所述处理液包括氢氟酸。

可选地，它还包括：

使显示面板在喷淋区域下方以正方向、反方向相切换地移动。

由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：

本发明的显示面板氢氟酸清洗装置和氢氟酸清洗方法，由于输送组件的传输速度为可调节设置，因此通过调节传输速度可以使显示面板以高速进入喷淋区域，并以低速在喷淋区域内移动，从而使得显示面板在传输方向上的前后部分达到相同程度的清洗。提升清洗质量。

附图说明