[发明专利]阵列透镜、透镜天线和电子设备有效
申请号: | 201910944492.2 | 申请日: | 2019-09-30 |
公开(公告)号: | CN112582803B | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 杨帆 | 申请(专利权)人: | OPPO广东移动通信有限公司 |
主分类号: | H01Q15/02 | 分类号: | H01Q15/02;H01Q19/06 |
代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 熊文杰 |
地址: | 523860 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 透镜 透镜天线 电子设备 | ||
1.一种阵列透镜,其特征在于,包括:
多层第一介质层;
多层第一阵列结构,所述第一阵列结构与所述第一介质层沿第一方向交替层叠设置,每一层所述第一阵列结构包括多个呈阵列设置的第一阵列单元,多层所述第一阵列结构中位于同一相对位置的多个所述第一阵列单元在所述第一方向上同轴设置;
其中,位于同一相对位置的多个所述第一阵列单元及其对应的第一介质层共同构成一波导结构,至少两个所述波导结构在所述第一阵列单元的阵列方向上具有数量渐变的所述第一阵列单元;当电磁波沿所述第一方向入射时,所述电磁波沿所述波导结构边缘传播,所述阵列透镜具有等效折射率渐变规律能够汇聚所述电磁波并调节所述电磁波的相位延迟。
2.根据权利要求1所述的阵列透镜,其特征在于,每一层所述第一阵列结构中的多个所述第一阵列单元呈一维阵列设置,且在至少两个所述波导结构上的所述第一阵列单元的数量由所述一维阵列的阵列中心向阵列边缘对称减小。
3.根据权利要求2所述的阵列透镜,其特征在于,每个所述第一阵列单元的几何形状相同且彼此独立设置,且相邻两个所述第一阵列单元的中心距离相等。
4.根据权利要求1所述的阵列透镜,其特征在于,每一层所述第一阵列结构中的多个所述第一阵列单元呈二维阵列设置;且在至少两个所述波导结构上的所述第一阵列单元的数量由所述二维阵列的阵列中心线向阵列边缘对称减小,多个所述第一阵列单元关于所述阵列中心线对称设置。
5.根据权利要求4所述的阵列透镜,其特征在于,每行所述波导结构中的所述第一阵列单元的数量由第一中心线向阵列边缘对称减小,每列所述波导结构中的所述第一阵列单元的数量相等,其中,所述第一中心线与所述二维阵列的列方向相同。
6.根据权利要求4所述的阵列透镜,其特征在于,每行所述波导结构中的所述第一阵列单元的数量由第一中心线向阵列边缘对称减小,每列所述波导结构中的所述第一阵列单元的数量由第二中心线向阵列边缘对称减小,其中,所述第一中心线与所述二维阵列的列方向相同,所述第二中心线与所述二维阵列的行方向相同。
7.根据权利要求4所述的阵列透镜,其特征在于,每个所述第一阵列单元的几何形状相同且彼此独立设置,且每行相邻两个所述第一阵列单元的第一中心距离相等,每列相邻两个所述第一阵列单元的第二中心距离相等。
8.根据权利要求1-7任一项所述的阵列透镜,其特征在于,所述阵列透镜包括相背设置的顶层和底层,至少两个所述波导结构中所述第一阵列单元的数量沿所述阵列透镜中间层的阵列边缘向所述顶层或/底层的阵列中心逐层对称递减;其中,所述中间层为具有最多所述第一阵列单元的第一阵列结构。
9.根据权利要求8所述的阵列透镜,其特征在于,所述阵列透镜还包括匹配层,当至少两个所述波导结构中所述第一阵列单元的数量沿所述透镜中间层的阵列边缘向所述透镜顶层对称递减时,所述匹配层贴合于所述顶层;或,
当至少两个所述波导结构中所述第一阵列单元的数量沿所述透镜中间层的阵列边缘向所述透镜底层对称递减时,所述匹配层贴合于所述底层;
其中,所述匹配层包括:
至少一第二介质层;
至少一第二阵列结构,所述第二介质层与所述第二阵列结构沿所述第一方向交替堆叠设置,其中,所述第二阵列结构包括多个呈阵列设置的匹配单元,位于同一相对位置的多个所述第一阵列单元与位于同一相对位置的至少一所述匹配单元在所述第一方向上同轴设置,同轴设置的至少一个所述匹配单元和多个所述第一阵列单元在阵列方向上的尺寸在所述第一方向上具有渐变规律。
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