[发明专利]一种用于提高管件变形均匀性的集磁器及其电磁成型装置

权利要求书

1.一种用于提高管件变形均匀性的集磁器，所述集磁器(2)为中心设置有通孔(6)的环状结构，且该集磁器(2)上设置有一沿着所述通孔(6)的径向贯通该集磁器(2)侧壁的空隙(4)，其特征在于，所述集磁器(2)位于通孔(6)的内壁上还设置有至少一个缝隙(5)，所述缝隙(5)沿着所述通孔(6)的轴向延伸，该缝隙(5)和所述空隙(4)沿着所述通孔(6)的周向均匀设置。

2.根据权利要求1所述的用于提高管件变形均匀性的集磁器，其特征在于，所述集磁器(2)为一体式结构，所述缝隙(5)为设置在所述通孔(6)侧壁上的槽结构，所述缝隙(5)的宽度与所述空隙(4)的宽度相同。

3.根据权利要求1所述的用于提高管件变形均匀性的集磁器，其特征在于，所述缝隙(5)为宽度与所述空隙(4)的宽度相同、且沿着所述通孔(6)的轴向贯通的通槽结构。

4.根据权利要求1-3任一所述的用于提高管件变形均匀性的集磁器，其特征在于，所述缝隙(5)的数量为3个，所述缝隙(5)与所述空隙(4)沿着所述通孔(6)的周向均匀设置。

5.根据权利要求1所述的用于提高管件变形均匀性的集磁器，其特征在于，所述集磁器(2)为分体式结构，该集磁器(2)包括多个分体集磁器(21)，多个分体集磁器(21)形成一中心带所述通孔(6)的环状结构，相邻所述分体集磁器(21)之间形成有所述空隙(4)，所述分体集磁器(21)和空隙(4)均沿着所述通孔(6)中心对称设置。

6.根据权利要求5所述的用于提高管件变形均匀性的集磁器，其特征在于，任一所述空隙(4)的宽度相同。

7.根据权利要求5所述的用于提高管件变形均匀性的集磁器，其特征在于，所述分体集磁器(21)的数量为沿着所述通孔(6)中心对称设置的4个。

8.根据权利要求5所述的用于提高管件变形均匀性的集磁器，其特征在于，所述分体集磁器(21)位于所述通孔(6)的内壁上还设置有至少一个所述缝隙(5)，所述缝隙(5)沿着所述通孔(6)的轴向延伸。

9.根据权利要求8所述的用于提高管件变形均匀性的集磁器，其特征在于，所述缝隙(5)为宽度与所述空隙(4)的宽度相同、且沿着所述通孔(6)的轴向贯通的通槽结构。

10.一种电磁成型装置，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的用于提高管件变形均匀性的集磁器(2)，靠近所述集磁器(2)的外壁设置有螺线管线圈(1)。