[发明专利]双光子显微成像系统

权利要求书

1.一种双光子显微成像系统，其特征在于，包括激光器、二次谐波产生装置及双光子显微成像装置，所述二次谐波产生装置位于所述激光器与所述双光子显微成像装置之间；所述二次谐波产生装置用于对所述激光器发出的激光的频率进行倍增，所述二次谐波产生装置包括依次设置于所述激光器的出射光路上的相位延迟片、非线性介质，所述相位延迟片用于调节激光器发出的激光的相位，以获得具有预定偏振方向的激光，所述非线性介质用于对具有预定偏振方向的激光进行频率倍增，产生波长为激光器发出的激光的波长的一半的短波长激发脉冲；所述双光子显微成像装置包括反射器、分光器、显微成像结构、载物台、双光子荧光激发检测结构及处理器，所述反射器位于所述激光器的出射光路上，所述分光器位于所述反射器的反射光路上，所述显微成像结构、载物台依次设置于所述分光器的透射光路上，所述双光子荧光激发检测结构设置于所述分光器的反射光路上，或者所述显微成像结构、载物台依次设置于所述分光器的反射光路上，所述双光子荧光激发检测结构设置于所述分光器的透射光路上，所述处理器与所述双光子荧光激发检测结构连接；所述激光器为近红外锁模光纤激光器，所述近红外锁模光纤激光器的中心波长为1000nm～1100nm；所述相位延迟片为二分之一波片。

2.根据权利要求1所述的双光子显微成像系统，其特征在于，所述非线性介质的材质为三硼酸锂晶体、偏硼酸钡晶体、磷酸钛氧钾晶体中的一种，和/或所述非线性介质的厚度为0.5mm～5mm。

3.根据权利要求1所述的双光子显微成像系统，其特征在于，所述二次谐波产生装置还包括第一聚焦透镜和第一准直透镜，所述第一聚焦透镜设置于所述相位延迟片与所述非线性介质之间，所述第一准直透镜设置于所述非线性介质与所述反射器之间；所述第一聚焦透镜的后焦平面与所述第一准直透镜的前焦平面重合，所述非线性介质位于所述第一聚焦透镜的后焦平面上。

4.根据权利要求1所述的双光子显微成像系统，其特征在于，所述双光子荧光激发检测结构包括依次设置于所述分光器的反射光路或透射光路上的第二聚焦透镜、滤光片及光电探测器，所述光电探测器位于所述第二聚焦透镜的后焦平面上，所述光电探测器与所述处理器连接。

5.根据权利要求1所述的双光子显微成像系统，其特征在于，所述反射器为振镜，所述反射器与所述处理器连接。

6.根据权利要求1所述的双光子显微成像系统，其特征在于，所述双光子显微成像装置还包括设于所述反射器的反射光路上的扩束结构，所述扩束结构包括第二准直透镜和第三聚焦透镜，所述第二准直透镜位于所述分光器与所述第三聚焦透镜之间；所述第三聚焦透镜的后焦平面与所述第二准直透镜的前焦平面重合。

7.根据权利要求1所述的双光子显微成像系统，其特征在于，所述显微成像结构包括物镜和驱动器，所述物镜设于所述分光器与所述载物台之间，所述驱动器分别与所述物镜、处理器连接。

8.根据权利要求1所述的双光子显微成像系统，其特征在于，所述分光器为二向色镜。