[发明专利]筛选SBAR规则的方法有效

专利信息
申请号: 201910914949.5 申请日: 2019-09-26
公开(公告)号: CN110647008B 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 刘雪强;戴韫青;于世瑞 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 张彦敏
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 筛选 sbar 规则 方法
【权利要求书】:

1.一种筛选SBAR规则的方法,其特征在于,包括:

S1:提供一第一图案,在第一图案周围生成不同SBAR规则,以生成带有不同SBAR规则的第一图案集合;

S2:生成不同焦点下的光学模型;

S3:确定最佳的焦点值;

S4:根据anchor pattern确定光强的阈值;以及

S5:利用最佳的焦点值对应的光学模型对步骤S1中带有不同SBAR规则的第一图案进行仿真,得到带有不同SBAR规则的第一图案的焦深,筛选出焦深大于一第一阈值的带有SBAR规则的图案。

2.根据权利要求1所述的筛选SBAR规则的方法,其特征在于,步骤S1中的所述SBAR规则中包括距离第一图案最近的sbar到第一图案的距离d1、两相邻sbar间的距离d2以及sbar的宽度w1。

3.根据权利要求2所述的筛选SBAR规则的方法,其特征在于,所述不同SBAR规则包括距离d1、距离d2和宽度w1值的不同组合的SBAR规则。

4.根据权利要求3所述的筛选SBAR规则的方法,其特征在于,所述不同SBAR规则中包括距离d1、距离d2和宽度w1值中的任一值固定,其它两个值变化后形成的SBAR规则。

5.根据权利要求1所述的筛选SBAR规则的方法,其特征在于,所述第一图案为孤立图案或稀疏图案。

6.根据权利要求1所述的筛选SBAR规则的方法,其特征在于,在步骤S2中,向一仿真软件中输入光源信息以及晶圆上的薄膜堆叠结构信息,进而生成不同焦点下的光学模型。

7.根据权利要求1所述的筛选SBAR规则的方法,其特征在于,在步骤S3中,提取步骤S1中一带有SBAR规则的第一图案在不同焦点下的光学强度分布,根据其光学强度分布确定最佳的焦点值。

8.根据权利要求7所述的筛选SBAR规则的方法,其特征在于,最佳的焦点值为光学强度分布中最大光学强度分布对应的焦点值。

9.根据权利要求1所述的筛选SBAR规则的方法,其特征在于,在步骤S4中,根据步骤S3中确定的最佳的焦点值,选择最佳的焦点值对应的光学模型,利用该光学模型仿真anchorpattern的光学强度分布,根据anchor pattern的显影后CD测量目标值确定光学强度的阈值。

10.根据权利要求9所述的筛选SBAR规则的方法,其特征在于,光学强度分布曲线中一波峰在同一光学强度值下对应的两点之间的差值为Anchor pattern的CD目标值的光学强度值为光学强度的阈值。

11.根据权利要求1所述的筛选SBAR规则的方法,其特征在于,在步骤S5中根据在步骤S4中确定的光强的阈值得到不同焦点条件下的CD值,从而得到带有不同SBAR规则的第一图案的Bossung曲线,通过多项式拟合得到曲率绝对值,曲率绝对值代表焦深,统计步骤S1中带有不同SBAR规则的第一图案集合中的每一带有SBAR规则的第一图案的拟合曲率,选择曲率小于第一阈值的带有SBAR规则的第一图案对应的SBAR规则为备用SBAR规则。

12.根据权利要求1所述的筛选SBAR规则的方法,其特征在于,所述筛选SBAR规则的方法应用于筛选应用于光学临近效应修正中的SBAR规则。

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