[发明专利]用于处理光辐射的装置

说明书

本发明涉及用于处理光辐射的装置，包括至少两个光学反射元件，光学反射元件中的至少一个形成具有多个被称为校正位置的位置的校正元件，每个实现所述光辐射的反射或透射，并且其表面是不规则的，使得所述校正位置的空间相位轮廓对于所述校正位置的多个不同的反射/透射点具有不同的相移，并且所述校正位置中的至少两个具有不同的相位轮廓，其中所述至少两个光学反射元件限定多通过腔体，所述多通过腔体布置成使得所述光辐射在所述两个光学反射元件之间进行多次往返，使得每个光学反射元件在不同的反射位置处反射所述光辐射至少四次；所述多通过腔体不包括由透镜或偏振元件组成的任何中间光学元件。

本申请是分案申请，其原案申请是申请号为PCT/EP2015/050711、申请日为2015年1月15日的PCT申请并且于2016年7月29日进入中国国家阶段，申请号为201580006509.X，名称为“光/光学辐射的处理装置、设计这种装置的方法和系统”。

本发明涉及用于特别是通过一系列传播和对光辐射的空间相位的修改来处理光/光学辐射的装置。本发明还涉及用于设计这种装置的方法和系统。

技术领域

本发明的领域是光学辐射的处理的领域并且特别是需要光辐射的一系列传播的光学辐射的处理的领域。

背景技术

文献WO2012/085046A1描述了用于校正漫射介质对已在该漫射介质中传播的光学辐射的影响的系统或者用于以任意方式转换光学辐射的空间特性的系统。其涉及光辐射的处理系统。

在该文献中描述的系统包括彼此分离的多个光学部件(相位板或空间相位调制器)，其相位轮廓可以在优化步骤期间被单独地调整，并且所述多个光学部件的每个允许修改穿过其或者在其上被反射的光辐射的空间相位。正是对被传播所分离的光辐射的空间相位的这些修改的过程允许以一般方式处理光辐射。

更一般地，被设置用于处理光辐射的光学系统包括彼此分离并且其每个实现对光学辐射的给定处理的多个光学部件。

包括允许修改辐射的相位轮廓的多个光学部件并且光学辐射在其中实现一系列传播的这些光学系统具有很大的不足。在这些系统中，光学部件相对于彼此以及相对于光辐射的布置必须非常精确，典型地为微米量级，这可能是难以达到的，组装费时并且增加了对安装刚度的要求。光学元件的不良布置引起对光学辐射实现的处理的劣化。于是，在处理装置的输出处的光学辐射因此而劣化。这种劣化可能呈现为例如输出辐射的强度损失或不想要的空间形变的形式。

本发明的目的在于缓解前述不足。

本发明的另一目的是提出一种构造起来更容易的、光学辐射的处理装置。

另外，本发明的另一目的是提出一种构造起来更快速的、光学辐射的处理装置。

最后本发明的另一目的是提出一种对冲击和振动更耐受的、光学辐射的处理装置。

发明内容

本发明允许通过如下的用于处理光辐射的装置来达到前述目的中的至少一个：所述装置包括限定多通过腔体的至少两个光学反射元件，使得所述光学元件中的至少一个特别地在至少两个不同的反射位置反射所述光辐射至少两次，其特征在于，所述装置包括至少一个被称为校正元件的元件，该校正元件具有至少一个被称为校正位置的位置，校正位置实现所述光学辐射的反射或透射，并且所述校正元件的表面是不规则的，使得所述校正位置的空间相位轮廓对于所述校正位置的多个不同的反射/透射点具有不同的相移。

换言之，校正位置不同地修改光辐射的至少两个空间分量的相位。

因此，根据本发明的装置通过以固定方式限定的多通过腔体以及通过小数量的光学元件来处理光或光学辐射，其中光辐射被多次反射。在至少一个校正元件上进行至少一次反射或透射期间，光辐射的空间相位被修改。

因此，根据本发明的装置利用同一固定的校正元件实现光辐射的空间相位的一次或更多次修改。