[发明专利]喷墨头清洁装置、喷墨头清洁方法及基板处理方法

权利要求书

1.一种喷墨头清洁装置，包括：

叶片主体，以旋转轴为中心而可旋转，并沿垂直于所述旋转轴的方向延伸；

喷射口，形成在所述叶片主体的末端，向形成有喷嘴的喷墨头喷射溶剂；

叶片尖端，连接到所述叶片主体的所述末端而被固定，配备为通过擦除而去除所述喷嘴表面的污染物；以及

吸入口，形成在所述叶片主体的所述末端，布置在所述喷射口和所述叶片尖端之间且配备为吸入从所述喷射口喷射的所述溶剂。

2.如权利要求1所述的喷墨头清洁装置，其特征在于，还包括：

溶剂储存部，储存有溶剂，

其中，按在所述叶片主体旋转时所述叶片尖端浸渍到所述溶剂的方式所述叶片主体和所述溶剂储存部结合。

3.如权利要求1所述的喷墨头清洁装置，其特征在于，

所述叶片尖端在与垂直于形成有喷嘴的喷墨头的下表面的方向构成小于45度的第一角度的状态下，与所述喷嘴接触而去除所述喷嘴表面的污染物。

4.如权利要求1所述的喷墨头清洁装置，其特征在于，还包括：

连接到所述叶片主体的喷射管和吸入管，

所述喷射口通过所述叶片主体内部而连接到所述喷射管，从而从所述喷射管接收所述溶剂，

所述吸入口通过所述叶片主体内部而连接到所述吸入管，从而从所述吸入管接收真空吸入力。

5.如权利要求1所述的喷墨头清洁装置，其特征在于，

在所述叶片主体的所述末端，以所述叶片尖端为基准而在形成有所述吸入口的相反方向还形成有辅助吸入口。

6.如权利要求1所述的喷墨头清洁装置，其特征在于，

所述喷射口和所述吸入口为沿平行于所述旋转轴的方向延伸的狭缝形态。

7.如权利要求1所述的喷墨头清洁装置，其特征在于，

所述溶剂包括N-甲基吡咯烷酮，所述污染物包括聚酰亚胺。

8.如权利要求1所述的喷墨头清洁装置，其特征在于，

所述叶片尖端包括硅。

9.一种喷墨头清洁方法，包括如下步骤：

向喷墨头的喷嘴喷射溶剂；

利用叶片尖端从喷嘴去除所述喷嘴上的被所述喷射的溶剂溶解的污染物；

吸入通过所述叶片尖端而被去除的所述污染物；以及

将残留在所述叶片尖端的所述污染物浸渍到储存在溶剂储存部的溶剂而将其从所述叶片尖端去除。

10.如权利要求9所述的喷墨头清洁方法，其特征在于，

在所述喷射的步骤中，

通过形成在连接有所述叶片尖端的叶片主体的末端的喷射口喷射所述溶剂。

11.如权利要求10所述的喷墨头清洁方法，其特征在于，

在所述从喷嘴去除的步骤中，

所述叶片尖端通过擦除而去除所述喷嘴表面的所述污染物。

12.如权利要求11所述的喷墨头清洁方法，其特征在于，

所述叶片尖端在与垂直于形成有喷嘴的喷墨头的下表面的方向构成小于45度的第一角度的状态下，与所述喷嘴接触而去除所述污染物。

13.如权利要求11所述的喷墨头清洁方法，其特征在于，

在所述吸入的步骤中，

通过形成在所述叶片主体的所述末端且布置在所述喷射口和所述叶片尖端之间的吸入口吸入所述污染物和所述溶剂。

14.如权利要求10所述的喷墨头清洁方法，其特征在于，

在所述从叶片尖端去除的步骤中，

通过将所述叶片尖端浸渍在储存于溶剂储存部的溶剂，从而使残留在所述叶片尖端的所述污染物溶解到所述溶剂中。