[发明专利]一种化学发光分析仪的冲洗室吸附系统在审
申请号: | 201910888995.2 | 申请日: | 2019-09-19 |
公开(公告)号: | CN110508548A | 公开(公告)日: | 2019-11-29 |
发明(设计)人: | 魏金文;陈升起;金晶 | 申请(专利权)人: | 南京迪格诺斯生物技术有限公司 |
主分类号: | B08B3/04 | 分类号: | B08B3/04;B08B3/08;B08B13/00;G01N21/76;G01N35/04;G01N35/00;G01N35/02 |
代理公司: | 32249 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) | 代理人: | 吴旭<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
地址: | 210000 江苏省南京*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反应杯 固定环 内圈固定 清洗 清洗液 磁珠 吸附组件 磁铁 化学发光分析 清洗吸附系统 磁珠吸附 固定反应 环状轨道 冲洗室 抽出 检测 | ||
1.一种化学发光分析仪的冲洗室清洗吸附系统,其特征在于,包括呈内外设置的内圈固定环和外圈固定环,以及设置于内圈固定环和外圈固定环之间固定反应杯的反应杯固定环,所述反应杯通过反应杯固定环在内圈固定环和外圈固定环形成的环状轨道中旋转,所述内圈固定环和外圈固定环上设置有清洗吸附组件,清洗吸附组件包括设置于内圈固定环外壁的若干组内环外壁吸附组、设置于内圈固定环外壁或外圈固定环内壁的吸附沉淀组和设置于外圈固定环内壁的若干组外环内壁吸附组,沿着内圈固定环和外圈固定环圆周设置有交替排布的内环外壁吸附组和外环内壁吸附组、依次设置于交替排布后的吸附沉淀组和清洗完成组。
2.根据权利要求1所述的化学发光分析仪的冲洗室清洗吸附系统,其特征在于,所述内环外壁吸附组包括n行m列紧贴式排布的若干块铁磁,n≥1,m≥1,位于同一行的磁铁极性相同,位于同一列的磁铁极性相反,所述吸附沉淀组低于内环外壁吸附组;所述外环内壁吸附组包括与内环外壁吸附组位于上一行或下一行的磁铁极性相同的磁铁,且位于外环内壁吸附组的磁铁位于内环外壁吸附组同一列磁铁的横向中轴线处的外圈固定环内壁上。
3.根据权利要求1所述的化学发光分析仪的冲洗室清洗吸附系统,其特征在于,所述外环内壁吸附组包括n行m列紧贴式排布的若干块铁磁,n≥1,m≥1,位于同一行的磁铁极性相同,位于同一列的磁铁极性相反,所述吸附沉淀组低于外环内壁吸附组;所述内环外壁吸附组包括与外环内壁吸附组位于上一行或下一行的磁铁极性相同的磁铁,且位于内环外壁吸附组的磁铁位于外环内壁吸附组同一列磁铁的横向中轴线处的内圈固定环内壁上。
4.根据权利要求1-3任一所述的化学发光分析仪的冲洗室清洗吸附系统,其特征在于,所述吸附沉淀组包括n行m列紧贴式排布的若干块铁磁,n≥1,m≥1,位于同一行的磁铁极性相同,位于同一列的磁铁极性相反。
5.根据权利要求4所述的化学发光分析仪的冲洗室清洗吸附系统,其特征在于,所述反应杯固定环上设置有一圈若干个反应杯放置槽,反应杯放置槽内装配反应杯;交替排布的内环外壁吸附组的磁铁列数、外环内壁吸附组的磁铁数和吸附沉淀组的磁铁列数加1等于反应杯放置槽的数量。
6.根据权利要求4所述的化学发光分析仪的冲洗室清洗吸附系统,其特征在于,所述内环外壁吸附组和吸附沉淀组中位于上一行的磁铁极性均为N,位于下一行的磁铁极性均为S,清洗吸附组件的磁铁极性的排布模式为:内环外壁吸附组磁铁上一行排布为N-N-N-N,下一行排布为S-S-S-S,外环内壁吸附组磁铁N,内环外壁吸附组磁铁上一行排布为N-N-N,下一行排布为S-S-S,外环内壁吸附组磁铁N,内环外壁吸附组磁铁上一行排布为N-N-N,下一行排布为S-S-S,吸附沉淀组上一行排布为N-N,下一行排布为S-S,所述反应杯放置槽的数量为15,所述清洗液抽注针为4组。
7.根据权利要求1所述的化学发光分析仪的冲洗室清洗吸附系统,其特征在于,所述反应杯上方设置有若干个清洗液抽注针,所述反应杯固定环上方设置有驱动若干组清洗液抽注针上下运动伸入或移出反应杯内的清洗液抽注针固定架,清洗液抽注针固定架通过升降驱动杆连接第一电机,若干个清洗液抽注针分别位于具有内环外壁吸附组的反应杯上方,清洗液抽注针下端指向反应杯内,清洗液抽注针上端设置有两个接口,其中一个通过清洗液管路接清洗液,另一个通过废液管路接废液管。
8.根据权利要求1所述的化学发光分析仪的冲洗室清洗吸附系统,其特征在于,所述反应杯固定环下方设置有与其通过螺钉连接的旋转盘,旋转盘连接有驱动机构;所述驱动机构包括第二电机、与电机轴连接的小齿轮和与小齿轮啮合的大齿轮,所述大齿轮与旋转盘固定连接。
9.根据权利要求1所述的化学发光分析仪的冲洗室清洗吸附系统,其特征在于,位于旋转盘上,与每一个反应杯对应的位置设置有一个定位槽,所述外圈固定环上设置有光耦。
10.根据权利要求4所述的化学发光分析仪的冲洗室清洗吸附系统,其特征在于,位于内圈固定环上的磁铁与内圈固定环之间设置有磁铁固定环,位于外圈固定环上的磁铁与外圈固定环之间设置有磁铁固定环。
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