[发明专利]一种图像处理方法、智能终端及存储介质在审

专利信息
申请号: 201910825612.7 申请日: 2019-09-02
公开(公告)号: CN112446833A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 向超;刘阳兴;李力;廖秋萍;郑加章 申请(专利权)人: 武汉TCL集团工业研究院有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T5/40;H04N5/232;H04N5/235
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 430000 湖北省武汉市东湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 图像 处理 方法 智能 终端 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种图像处理方法,其特征在于,所述图像处理方法包括:

获取待处理图像,确定所述待处理图像对应的亮度直方图,并根据所述亮度直方图确定所述待处理图像对应的曝光补偿系数;

根据所述曝光补偿系数对所述待处理图像进行处理,生成最终成像图像。

2.根据权利要求1所述的图像处理方法,其特征在于,所述确定所述待处理图像对应的亮度直方图具体包括:

对所述待处理图像进行采样,生成与所述待处理图像对应的第一采样图像和第二采样图像;

确定所述第一采样图像和所述第二采样图像对应的亮度直方图。

3.根据权利要求2所述的图像处理方法,其特征在于,所述对所述待处理图像进行采样,生成与所述待处理图像对应的第一采样图像和第二采样图像具体包括:

将所述待处理图像分割为若干个子图像,所述子图像的宽高比与所述待处理图像的宽高比相同;

根据所述待处理图像的图像分辨率计算像素采样间隔;

根据所述像素采样间隔分别对所述待处理图像以及所述若干个子图像进行像素点采样,分别选取所述待处理图像以及所述若干个子图像中的部分像素点,生成与所述待处理图像对应的第一采样图像和与所述若干个子图像各自分别对应的第二采样图像。

4.根据权利要求3所述的图像处理方法,其特征在于,所述确定所述第一采样图像和所述第二采样图像对应的亮度直方图具体包括:

根据所述第一采样图像中的所有像素点的亮度数据,绘制所述第一采样图像对应的第一亮度直方图;

根据每个所述第二采样图像中的所有像素点的亮度数据分别绘制出各个所述第二采样图像对应的第二亮度直方图。

5.根据权利要求4所述的图像处理方法,其特征在于,所述根据所述亮度直方图确定所述待处理图像对应的曝光补偿系数具体包括:

计算所述第一亮度直方图对应的卷积值和各个所述第二亮度直方图分别对应的卷积值;

根据所述第一亮度直方图对应的卷积值和各个所述第二亮度直方图分别对应的卷积值,确定所述待处理图像对应的曝光补偿系数。

6.根据权利要求5所述的图像处理方法,其特征在于,所述计算所述第一亮度直方图对应的卷积值和各个所述第二亮度直方图分别对应的卷积值具体包括:

计算所述第一亮度直方图的最后一个分支的第一卷积值;

分别计算所述第一亮度直方图的最后五个分支各自对应的卷积值差分,并确定所述最后五个分支各自对应的卷积值差分中的最大差分值;

分别计算各个所述第二亮度直方图各自对应的最后一个分支的第二卷积值;

确定全部的所述第二卷积值中的最大卷积值和全部的所述第二卷积值中的最小卷积值。

7.根据权利要求6所述的图像处理方法,其特征在于,所述根据所述第一亮度直方图对应的卷积值和各个所述第二亮度直方图分别对应的卷积值,确定所述待处理图像对应的曝光补偿系数具体包括:

根据所述第一卷积值计算初始曝光补偿系数;

当所述初始曝光补偿系数小于或等于预设基准值时,确定所述曝光补偿系数等于1;

当所述初始曝光补偿系数大于所述预设基准值时,根据所述最大卷积值和所述最小卷积值确定所述曝光补偿系数。

8.根据权利要求7所述的图像处理方法,其特征在于,所述根据所述最大卷积值和最小卷积值确定所述曝光补偿系数具体包括:

当所述最小卷积值小于第一预设值,且所述最大卷积值和所述最小卷积值的比值大于第二预设值时,确定所述曝光补偿系数为所述初始曝光补偿系数和预设第一基准值中的最小值;

当所述最小卷积值大于所述第一预设值或所述最大卷积值和所述最小卷积值的比值小于所述第二预设值时,根据所述最大差分值和所述初始曝光补偿系数确定所述曝光补偿系数。

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