[发明专利]一种利用光衍射现象合成基因芯片的设备有效
申请号: | 201910762108.7 | 申请日: | 2019-08-19 |
公开(公告)号: | CN110515278A | 公开(公告)日: | 2019-11-29 |
发明(设计)人: | 薛锡州 | 申请(专利权)人: | 薛锡州 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/16 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 255022 山东省淄*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 活动连接有 喷涂机构 支撑架 轴套 壳体 螺杆 转轴 合成 基因检测技术 可转动螺杆 挡板 基因芯片 螺杆转动 内部固定 送料通道 温度可控 细胞存活 出料口 光敏剂 光衍射 照射灯 封堵 碱基 双管 套接 喷洒 喷射 照射 概率 | ||
本发明涉及基因检测技术领域,一种利用光衍射现象合成基因芯片的设备,包括支撑架,所述支撑架的内部活动连接有转轴,转轴的表面套接有轴套,轴套的表面活动连接有螺杆,螺杆远离轴套的一端活动连接有壳体,壳体的内部固定连接有喷涂机构,所述支撑架的内部且位于喷涂机构的下方固定安装有照射灯,所述喷涂机构包括连杆。在照射的过程中能够提高一定的温度,利用此温度可提高细胞存活的概率,从而达到温度可控的效果,此外,在光敏剂喷射出来之后,可转动螺杆,使挡板上的出料口不与双管口接触,从而将其封堵,螺杆转动的过程中,会开启送料通道,使其内部的碱基喷洒出来,从而达到了无需转移便可完成合成的效果。
技术领域
本发明涉及基因检测技术领域,具体为一种利用光衍射现象合成基因芯片的设备。
背景技术
基因检测是通过血液、其他体液、或细胞对DNA进行检测的技术,是取被检测者外周静脉血或其他组织细胞,扩增其基因信息后,通过特定设备对被检测者细胞中的DNA分子信息作检测,分析它所含有的基因类型和基因缺陷及其表达功能是否正常的一种方法,从而使人们能了解自己的基因信息,明确病因或预知身体患某种疾病的风险。
在基因检测中常需要用到基因芯片,而基因芯片的制作方法常用光刻法与打印合成法,这两个技术都比较成熟,但都存在缺陷,光刻法虽能准确定位,但使用此方法有个前提便是需要进行预选设计,且预选设计耗时较长,当预选完成后,还需进行转移,在转移过程中不能保证细胞的活性,打印合成法虽不需要进行预选设计,但使用传统的机械移动,很难保证定位的准确性,且合成的温度不受控制,因此一种利用光衍射现象合成基因芯片的设备应运而生。
发明内容
为实现上述合成温度可控、无需转移、定位准确的目的,本发明提供如下技术方案:一种利用光衍射现象合成基因芯片的设备,包括支撑架,所述支撑架的内部活动连接有转轴,转轴的表面套接有轴套,轴套的表面活动连接有螺杆,螺杆远离轴套的一端活动连接有壳体,壳体的内部固定连接有喷涂机构,所述支撑架的内部且位于喷涂机构的下方固定安装有照射灯,所述喷涂机构包括连杆,连杆的上端与螺杆活动连接,所述连杆远离螺杆的一端活动连接有挡板,所述挡板的表面且位于连杆的两侧均活动连接有出料口,出料口的内部开设有储料槽,所述壳体的底面且位于出料口远离连杆的一侧固定连接有喷射通道。
本发明的有益效果是:
1.通过将储料槽内的光敏剂喷涂在待合成芯片上,打开照射灯,根据光敏基团能够吸收的波长范围调整好照射的紫外光波长,并加速光敏基团脱保护速率,再将碱基通过喷射通道喷洒在芯片上,因为细胞内物质的特性,合成只在那些脱去保护基的地方发生,合成后生成掩盖物,当掩盖物孔径较小时会发生光衍射现象,利用此现象可找到待喷射的地方,从而达到了准确定位且无需转移的效果。
2.通过照射灯照射出来一定波长的紫外光,在照射的过程中能够提高一定的温度,利用此温度可提高细胞存活的概率,从而达到温度可控的效果,此外,在光敏剂喷射出来之后,可转动螺杆,使挡板上的出料口不与双管口接触,从而将其封堵,螺杆转动的过程中,会开启送料通道,使其内部的碱基喷洒出来,从而达到了无需转移便可完成合成的效果。
优选的,光敏剂使固体表面上的羟基脱保护,然后固体表面与光敏保护基保护的、亚磷酰胺活化的碱基单体接触,使一个核苷酸单体连接上去,合成只在那些脱去保护基的地方发生。
优选的,光敏剂可以吸收一定波长的紫外光,把能量传递给光敏基团,此外光敏剂受一定波长的紫外光照射后能够激发产生与该紫外光波长相近的荧光,荧光能对光敏基团提供二次曝光,加快光敏基团脱保护速率。
优选的,所述喷射通道的两侧均固定连接流入口,所述喷射通道的上方固定连接有送料通道。
优选的,所述出料口的表面活动连接有双管口,双管口的内部活动连接有中空通道。
优选的,所述连杆通过弹簧与螺杆活动连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于薛锡州,未经薛锡州许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910762108.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种适用于激光直写曝光设备的光学系统组件
- 下一篇:一种掩膜板治具、曝光机