[发明专利]一种采用氧化还原法的调节精度高的石墨烯生产设备

权利要求书

1.一种采用氧化还原法的调节精度高的石墨烯生产设备，其特征在于，包括底座(1)、控制器(2)、反应机构、供料机构、若干支脚(3)和两个温控机构，所述控制器(2)固定在底座(1)的上方，所述反应机构通过支脚(3)设置在底座(1)的上方，所述供料机构位于反应机构的上方，两个温控机构分别位于反应机构的两侧；

所述反应机构包括水箱(4)、反应器(5)、搅拌组件和排液管(44)，所述水箱(4)固定在支脚(3)的顶端，所述反应器(5)固定在水箱(4)内，所述排液管(44)固定在反应器(5)的底端，所述排液管(44)的底端穿过水箱(4)的底部，所述搅拌组件设置在水箱(4)内，所述排液管(44)内设有阀门，所述阀门与PLC电连接；

所述供料机构包括料箱(6)、加料组件、料管(7)、连接管(8)、注液管(9)、若干检测组件和设置在料箱(6)内的调节组件，所述加料组件设置在料箱(6)的顶部，所述料管(7)的顶端与料箱(6)的底部连通，所述料管(7)内的底部设置连接管(8)内的顶部，所述检测组件周向均匀分布在连接管(8)的顶端的外周，所述注液管(9)与连接管(8)的一侧连通，所述连接管(8)的底部一侧穿过水箱(4)的顶部和反应器(5)的顶部设置在反应器(5)内，所述检测组件包括横板(10)、压力计(11)、弹簧(12)和限位单元，所述横板(10)固定在连接管(8)上，所述压力计(11)固定在横板(10)的上方，所述压力计(11)通过弹簧(12)与料箱(6)的顶部连接，所述弹簧(12)处于压缩状态，所述压力计(11)与PLC电连接；

所述温控机构包括水泵(13)、回流管(14)、温控箱(15)、竖管(16)、横管(17)、密封塞(18)和往复组件，所述温控箱(15)通过竖管(16)与横管(17)的中心处连通，所述横管(17)与水箱(4)的上部连通，所述温控箱(15)的顶部设有开口，所述密封塞(18)设置在开口内，所述水泵(13)固定在温控箱(15)的一侧，所述水泵(13)通过回流管(14)与水箱(4)的底部连通，所述往复组件包括密封板(45)、密封块(46)、连杆(47)和往复单元，所述密封板(45)的外周和密封块(46)的外周均与横管(17)的内壁密封连接，所述密封板(45)通过连杆(47)与密封块(46)的靠近水箱(4)的一侧固定连接，所述往复单元与密封块(46)的另一侧传动连接，两个温控机构中，其中一个温控机构中温控箱(15)内的底部设有加热器(19)，所述加热器(19)和水泵(13)均与PLC电连接。

2.如权利要求1所述的采用氧化还原法的调节精度高的石墨烯生产设备，其特征在于，所述调节组件包括调节块(20)、第一电机(21)、丝杆(22)、套管(23)和滑动单元，所述调节块(20)的形状为圆锥形，所述调节块(20)的外径大于料管(7)的内径，所述第一电机(21)固定在料箱(6)内的顶部，所述第一电机(21)与PLC电连接，所述第一电机(21)与丝杆(22)的顶端传动连接，所述丝杆(22)的底端设置在套管(23)内，所述套管(23)的与丝杆(22)连接处设有与丝杆(22)匹配的螺纹，所述套管(23)与调节块(20)的底面固定连接，所述滑动单元位于套管(23)的一侧。

3.如权利要求2所述的采用氧化还原法的调节精度高的石墨烯生产设备，其特征在于，所述滑动单元包括滑板(24)和滑杆(25)，所述滑板(24)与套管(23)固定连接，所述滑板(24)套设在滑杆(25)上，所述滑杆(25)的两端固定在料箱(6)内的顶部和底部。

4.如权利要求1所述的采用氧化还原法的调节精度高的石墨烯生产设备，其特征在于，所述限位单元包括限位杆(26)和限位块(27)，所述限位块(27)通过限位杆(26)固定在料箱(6)的下方，所述横板(10)套设在限位杆(26)上。

5.如权利要求1所述的采用氧化还原法的调节精度高的石墨烯生产设备，其特征在于，所述加料组件包括加料口、盖板(28)、凸块(29)和固定轴(30)，所述加料口设置在料箱(6)的顶部，所述凸块(29)通过固定轴(30)固定在料箱(6)的上方，所述盖板(28)套设在固定轴(30)上，所述盖板(28)盖设在加料口上。