[发明专利]干式清洗装置

说明书

本发明提供干式清洗装置，其能够检测清洗介质的量，从而能够在确保清洗效果的同时避免清洗介质的浪费。该干式清洗装置具备：清洗部，其具有开口的清洗槽，在所述清洗槽内收纳有清洗介质，所述清洗对象以覆盖所述开口的方式配置；气体供给部，其向所述清洗槽内供给气体；清洗介质检测部，其对清洗槽内的清洗介质的量进行检测；控制部，其根据所述清洗介质检测部的检测值对干式清洗装置进行控制。

技术领域

本发明涉及利用气体使清洗介质飞散并对清洗对象碰撞而将附着于清洗对象的粉尘或污垢等去除的干式清洗装置。

背景技术

近年来，提出了不使用有机溶剂、水等液体就能够对清洗对象进行清洗的干式清洗技术。作为采用这种技术的干式清洗装置例如专利文献1所示。

专利文献1：(日本)特许第4531841号

这样的干式清洗装置具有清洗槽和向清洗槽内供给气体的气体供给部。清洗槽形成有开口，呈板状的清洗对象以覆盖该开口的方式配置。在清洗槽内收纳有树脂薄片等清洗介质。通过由气体供给部向清洗槽内供给气体，而在清洗槽内形成旋流，使清洗介质飞散。飞散状态下的清洗介质碰撞清洗对象的表面，能够将附着的粉尘或污垢等去除，从而达到清洗的效果。

发明内容

然而，发明人经过研究发现清洗介质的量会对清洗效果产生很大影响。若清洗介质较少，则清洗力变弱，难以充分去除清洗对象上附着的污垢；若清洗介质较多，虽然更有助于清洗，但由于清洗介质的飞散碰撞而损耗增大，进而导致成本增大。

因此，鉴于上述情况，本发明提供能够检测清洗介质的量的干式清洗装置，从而能够在确保清洗效果的同时避免清洗介质的浪费。

本发明的干式清洗装置利用气体使清洗介质飞散并与清洗对象相互碰撞而将附着于所述清洗对象的污垢去除，其特征在于，具备：

清洗槽，其具有开口，在所述清洗槽内收纳有清洗介质，所述清洗对象以覆盖所述开口的方式配置；

气体供给部，其向所述清洗槽内供给所述气体；

清洗介质检测部，其对所述清洗槽内的所述清洗介质的量进行检测；

控制部，其根据所述清洗介质检测部的检测值对干式清洗装置进行控制。

根据上述结构，清洗介质检测部对清洗介质的量进行测定，并且控制部基于清洗介质检测部的检测值对干式清洗装置进行控制，由此，能够与清洗槽内的清洗介质的量相适应地控制清洗动作，能够在确保清洗效果的同时避免清洗介质的浪费。

另外，优选的是，所述清洗介质检测部在所述清洗介质的飞散状态下对所述清洗介质的量进行检测。

所述清洗介质检测部也可以由光学传感器构成，通过测定从飞散状态下的所述清洗介质透过或反射的光的光量，而确定所述清洗介质的量。

所述清洗介质检测部也可以由设置于所述清洗槽的内壁上的开关构成，

所述开关在受到所述清洗介质碰撞时进行切换接通断开状态的动作，

通过测定所述开关在单位时间内的动作时间或动作次数，而确定所述清洗介质的量。

所述清洗介质检测部也可以由设置于所述清洗槽的内壁上的压力传感器构成，

通过测定飞散状态下的所述清洗介质对所述压力传感器的压力，而确定所述清洗介质的量。

根据上述结构，由于是清洗介质为飞散状态下、即在对清洗对象进行清洗的状态下，对清洗介质的量进行检测，因此能够实时地监控清洗介质的量，从而控制部能够实时地对清洗槽中的清洗动作进行适当控制，更有效地确保清洗效果。

另外，优选的是，所述清洗介质检测部在所述清洗介质的静止状态下对所述清洗介质的量进行检测，