[发明专利]液体喷射头、液体喷射设备和液体喷射模块

说明书

本发明涉及液体喷射头、液体喷射设备和液体喷射模块。液体喷射头包括：允许第一液体和第二液体在内部流动的压力室、向第一液体施加压力的压力产生元件、和喷射第二液体的喷射口。第一液体和与第一液体相比在更靠近喷射口的一侧流动的第二液体在压力室中彼此接触地流动。在压力室中流动的第一液体和第二液体满足：0.00.44(Q₂/Q₁)^‑0.322(η₂/η₁)^‑0.1091.0，其中，η₁是第一液体的粘度，η₂是第二液体的粘度，Q₁是第一液体的流量，Q₂是第二液体的流量。

技术领域

本公开涉及液体喷射头、液体喷射模块和液体喷射设备。

背景技术

日本专利公开No.H06-305143公开了一种液体喷射单元，其构造成使用作喷射介质的液体和用作发泡介质的液体在界面上彼此接触，并且随着在接收传递的热能的发泡介质中产生的气泡的生长而喷射介质。日本专利公开No.H06-305143描述了通过向喷射介质和发泡介质中的一者或两者施加压力来形成喷射介质和发泡介质的流动。

发明内容

在本公开的第一方面中，提供了一种液体喷射头，其包括：压力室，所述压力室构造成允许第一液体和第二液体在内部流动；压力产生元件，所述压力产生元件构造成向第一液体施加压力；喷射口，所述喷射口构造成喷射第二液体，其中，第一液体和与第一液体相比在更靠近喷射口的一侧流动的第二液体在压力室中彼此接触地流动，并且在压力室中流动的第一液体和第二液体满足：

0.00.44(Q₂/Q₁)^-0.322(η₂/η₁)^-0.1091.0，

其中η₁是第一液体的粘度，η₂是第二液体的粘度，Q₁是第一液体的流量(体积流量[um³/us])，Q₂是第二液体的流量(体积流量[um³/us])。

在本公开的第二方面中，提供了一种液体喷射设备，其包括液体喷射头，所述液体喷射头包括：压力室，所述压力室构造成允许第一液体和第二液体在内部流动；压力产生元件，所述压力产生元件构造成向第一液体施加压力；喷射口，所述喷射口构造成喷射第二液体，其中，第一液体和与第一液体相比在更靠近喷射口的一侧流动的第二液体在压力室中彼此接触地流动，并且在压力室中流动的第一液体和第二液体满足：

0.00.44(Q₂/Q₁)^-0.322(η₂/η₁)^-0.1091.0，

其中η₁是第一液体的粘度，η₂是第二液体的粘度，Q₁是第一液体的流量，Q₂是第二液体的流量。

在本公开的第三方面中，提供了一种用于构造液体喷射头的液体喷射模块，所述液体喷射头包括：压力室，所述压力室构造成允许第一液体和第二液体在内部流动；压力产生元件，所述压力产生元件构造成向第一液体施加压力；喷射口，所述喷射口构造成喷射第二液体，其中，第一液体和与第一液体相比在更靠近喷射口的一侧流动的第二液体在压力室中彼此接触地流动，在压力室中流动的第一液体和第二液体满足：

0.00.44(Q₂/Q₁)^-0.322(η₂/η₁)^-0.1091.0，