[发明专利]激光处理设备

说明书

本公开涉及一种激光处理设备，所述激光处理设备包括：激光源，所述激光源被配置为发射激光束；光学扫描器，所述光学扫描器沿着所述激光束的路径定位并且被配置为调节所述激光束的所述路径；透镜单元，所述透镜单元沿着所述激光束的所述路径定位，所述透镜单元被配置为聚集所述激光束；第一适配器，所述第一适配器位于所述透镜单元和所述光学扫描器之间并且耦接到所述透镜单元；以及第二适配器，所述第二适配器位于所述第一适配器和所述光学扫描器之间，所述第二适配器耦接到所述第一适配器和所述光学扫描器。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年9月18日在韩国知识产权局(KIPO)提交的第10-2018-0111786号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。

技术领域

本发明的实施例涉及激光处理设备和制造所述激光处理设备的方法。

背景技术

激光处理设备是使用例如用于切割材料、形成图案以及焊接的激光束的装置。在激光处理中使用的激光束具有强的方向性和高的密度。具体来说，大功率的激光能够实现精确的处理，同时不影响周围环境，因此可以用于处理显示面板。

激光处理设备例如可以包括：激光源，所述激光源输出激光束；光学扫描器，所述光学扫描器调节输出的激光束的入射位置；以及透镜单元，所述透镜单元聚集入射位置被确定的激光束。在这样的实施例中，由于透镜单元的负荷，应力可以集中在激光处理设备的局部上，并且激光处理设备的刚性可被降低。

将理解的是，本背景技术部分旨在提供用于理解技术的有用的背景，如此，背景技术部分可以包括相关领域的技术人员在本申请的有效申请日之前还未获知或理解的构思或概念。

发明内容

本发明的实施例的方面涉及具有改善的刚性的激光处理设备。

根据实施例，激光处理设备包括：激光源，所述激光源被配置为发射激光束；光学扫描器，所述光学扫描器沿着所述激光束的路径定位并且被配置为调节所述激光束的所述路径；透镜单元，所述透镜单元沿着所述激光束的所述路径定位，所述透镜单元被配置为聚集所述激光束；第一适配器，所述第一适配器位于所述透镜单元和所述光学扫描器之间并且耦接到所述透镜单元；以及第二适配器，所述第二适配器位于所述第一适配器和所述光学扫描器之间，所述第二适配器耦接到所述第一适配器和所述光学扫描器。

所述透镜单元可以包括：透镜；和透镜壳体，所述透镜壳体包括耦接部和非耦接部，所述透镜壳体容纳所述透镜。

所述耦接部可以具有沿着所述激光束的所述路径定位的第一开口，并且可以具有在所述耦接部的外表面处的螺纹。

所述第一适配器可以在所述第一适配器的内表面处具有螺纹并且可以被配置为螺旋耦接到所述耦接部。

所述耦接部的外径可以小于所述非耦接部的外径。

所述第二适配器可以包括：底部，所述光学扫描器坐置在所述底部处，所述底部具有多个第一紧固件开口和多个第二紧固件开口；相对侧部，所述相对侧部从所述底部弯曲且延伸并且彼此相对，所述光学扫描器插设在所述相对侧部之间；以及支撑部，所述支撑部从所述底部和所述相对侧部弯曲且延伸。

所述光学扫描器可以直接接触所述底部的第一表面，并且所述第一适配器可以直接接触所述底部的与所述第一表面相对的第二表面。

在平面上，所述底部的面积可以大于由所述第一适配器的外表面限定的面积。

所述光学扫描器可以具有分别与所述多个第一紧固件开口对应的多个第一凹槽，并且所述第一适配器可以具有分别与所述多个第二紧固件开口对应的多个第二凹槽。