[发明专利]带肾盂内压监控的输尿管软镜

说明书

本发明涉及一种内窥镜器械，尤其是涉及一种带肾盂内压监控的输尿管软镜。带肾盂内压监控的输尿管软镜，包括软镜本体，所述的软镜本体包括镜管和位于镜管自由端的先端部，镜管与先端部通过弯曲部相连，先端部的侧面设置有光纤压力传感器。本发明具有能够对肾盂内工作区域内的压力实时精确监测、增大灌流回路的空间、降低灌流回路堵塞的风险、避免交叉感染的风险等有益效果。

技术领域

本发明涉及一种内窥镜器械，尤其是涉及一种带肾盂内压监控的输尿管软镜。

背景技术

输尿管软镜治疗泌尿系结石，由于镜体柔性，可经尿道无创直达肾盂肾盏，避免了肾脏出血和感染风险，与经皮肾镜碎石术（PCNL）相比，具有明显的优势，已经成为泌尿系结石手术治疗的主流术式，并在欧美发达国家和国内较发达地区得到广泛应用。随着输尿管软镜手术比例的不断增加，输尿管软镜手术相关感染并发症是医患双方始终关注的话题之一。EUA指南指出，即使预防性使用抗生素，可重复使用的输尿管镜术后尿路感染发生率约4～25%，为降低交叉感染风险，必须对输尿管软镜进行清洗和消毒。重复使用的电子软镜易损坏，其维修和维护的成本都非常高。输尿管软镜碎石与经皮肾镜穿刺碎石(PCNL )不同，软镜工作通道较小、灌注液引流通道迂曲狭长 、其操作过程中系统相对封闭，肾盂内压极易升高。一般认为，当肾盂内压超过一定极限时会出现肾内返流，引发严重并发症。临床上，已有术后并发尿源性脓毒血症和肾包膜下出血的现象出现，与术中液体灌流致肾盂压力过高，或碎石持续时间过长相关。

发明内容

本发明主要是针对现有输尿管软镜重复使用感染风险高、频繁消毒的维护成本高、灌注回路容易堵塞、对肾盂内部压力无法掌握等问题，提供一种带肾盂内压监控的输尿管软镜。本发明的第一发明目的是能够对肾盂内工作区域内的压力实时精确监测；本发明的第二发明目的是增大灌流回路中最狭窄区段的空间、降低灌流回路堵塞的风险；本发明的第三发明目的是避免交叉感染的风险。

本发明的第一发明目的主要是通过下述方案得以实现的：一种带肾盂内压监控的输尿管软镜，包括软镜本体，所述的软镜本体包括镜管和位于镜管自由端的先端部，镜管与先端部通过弯曲部相连，先端部的侧面设置有光纤压力传感器。将软镜导引鞘从尿道口插入，经过膀胱、下尿路、上尿路进入肾盂，并在上尿路末端和肾盂口处固定位置。然后，将软镜本体沿导引鞘插入，从肾盂口伸出，通过操作部上的拨片操作软镜弯曲段，进入结石所在部位，软镜本体中的钬激光光纤伸出软镜端面1cm左右，做激光碎石术。手术过程中为保持视野清晰需要不断向上尿路集合系统灌注液体。液体从软镜尖端注水通道射出，流经肾盂/肾盏，从软镜镜体与导引鞘之间的缝隙流出，形成灌流回路。然而，输尿管软镜钬激光碎石术中，肾盂内压不仅随时间变化，而且，肾盂内流动属于有限空间壁面射流流型，肾盂内压的空间分布是不均匀的，存在冲击射流驻点附近的相对高压区，也存在紧邻射流注入端口附近的低压回流区。在某些工况下，肾盂内局部压力甚至超过灌注压力。为控制肾盂内压始终处于安全范围，在先端部上设置光纤压力传感器，利用光纤压力传感器能够实时监测压力，并将压力转换成电信号进行显示，便于操作者掌控工作区域内的压力。由于先端部的自由端端面紧邻灌注液注入端口，此处正是壁面射流低压回流区，射流灌注压力越高，先端部端面的压力越低于肾盂内压平均值，也就越偏离对于肾盂内压的准确有效监控。而这一压力变化是极易被忽略的，因此，本申请中光纤压力传感器设置在先端部的侧面，避开低压回流区的干扰。故利用本发明后，能真正完成对电子输尿管软镜工作区域内压力的实时精确监测，为手术医生提供术中最有临床价值的肾盂内压数据，从而及时调整灌注水压及灌注流量。

本发明的第二发明目的主要是通过下述方案得以实现的：所述的软镜本体的直径小于2mm。现有导引鞘外径为4mm、内镜3.5mm，本申请中软镜本体的直径由现有的3mm缩小至小于2mm，即导引鞘内壁与软镜本体外壁之间的间隙厚度明显增大，而导引鞘内壁与软镜本体外壁之间的间隙正是灌流回路的核心位置，当灌流回路间隙增大时，能够降低局部堵塞的风险。