[发明专利]降低芦笋花药培养污染率的方法

说明书

本发明公开降低芦笋花药培养污染率的方法，其包括控制芦笋的花蕾期至花期的雄花蕾的发育温度；向芦笋施用磷肥和/或钾肥，并保持花期的土壤湿润；采集芦笋的顶端无开口的花蕾，并对花蕾表面进行消毒，剥离花药接种到培养基上进行低温预处理。本发明的方法促进了花蕾更好的发育，不仅有利于降低花药培养过程中污染率，而且能提高花药培养成功率。

技术领域

本发明涉及组织培养领域，具体地涉及降低芦笋花药培养污染率的方法。

背景技术

芦笋(Asparagus officinalis L.)是天门冬科天门冬属草本植物。芦笋是典型的雌雄异株植物，其性染色体处于植物性染色体进化途径的中间位置，性别表现出多种类型，包括雌株(XX)、雄株(XY)、超雄株(YY)和雄性雌型株(简称两性株，基因型为XY)。已有研究证明芦笋雄株产量比相同生长条件下同期雌株高。采用花药培养不仅可以快速获得基因型纯合的亲本，缩短育种年限，还能获得基因纯合的超雄株，以其作为父本与优良雌株杂交可获得许多高产的全雄新品种。因此，花药培养已经是用于创制芦笋育种新材料的重要方法。但目前芦笋花药培养工作中污染率较高的问题极大的限制了花药愈伤组织和再生植株的获得。

目前芦笋花药培养过程中通常采用先4℃低温预处理花蕾3～10d，然后再用0.1％升汞处理15min，以此对花药进行消毒。据张园等报道芦笋花蕾在0.1％升汞里处理15min，污染率高达34％以上。延长消毒时间，可以降低污染率，但对花蕾及其体内活细胞的伤害加重，影响花药培养效果。

发明内容

为解决现有技术中的至少部分技术问题，本发明提供一种有效降低芦笋花药培养过程中污染率的方法。具体地，本发明包括以下内容。

一种降低芦笋花药培养污染率的方法，其包括以下步骤：

(1)控制芦笋雄株、超雄株和两性株蕾期至花期的花蕾发育温度；

(2)向芦笋施用磷肥和/或钾肥，并保持花期的土壤湿润；

(3)采集所述芦笋的顶端无开口的花蕾，并对花蕾表面进行消毒，剥离花药接种到培养基上进行低温预处理。

优选地，本发明的降低芦笋花药培养污染率的方法中，所述步骤(1)和(2)同时进行。

优选地，本发明的降低芦笋花药培养污染率的方法中，所述步骤(1)包括使芦笋在白天处于20～28℃之间的温度环境，和在夜晚处于10℃～18℃的温度环境。

优选地，本发明的降低芦笋花药培养污染率的方法中，所述步骤(2)包括在出笋前施加60～70kg/hm²的硫酸钾和60～70kg/hm²的过磷酸钙，在现蕾期追施90～105kg/hm²硫酸钾；其中所述硫酸钾包含45～55wt％的K₂O，所述过磷酸钙包含15～25wt％的P₂O₅。

优选地，本发明的降低芦笋花药培养污染率的方法中，所述步骤(2)中保持花期的土壤湿润是指保持花期的土壤田间持水量在70～80wt％之间。

优选地，本发明的降低芦笋花药培养污染率的方法中，所述步骤(3)包括第一消毒和第二消毒，其中第一消毒为用醇水混合液浸泡花蕾10～20s，第二消毒为用升汞消毒液或次氯酸钠溶液浸泡花蕾8～10min。

优选地，本发明的降低芦笋花药培养污染率的方法中，在第一消毒前后和在第二消毒后分别包括使用无菌水清洗花蕾表面的步骤。

优选地，本发明的降低芦笋花药培养污染率的方法中，所述醇水混合液为70～80重量份酒精和20～30重量份水的混合液。

优选地，本发明的降低芦笋花药培养污染率的方法中，所述低温预处理包括使花药在培养基中于2～6℃温度环境保持2～6天。