[发明专利]时序控制方法、时序控制模组和显示装置有效

专利信息
申请号: 201910378411.7 申请日: 2019-04-30
公开(公告)号: CN109979392B 公开(公告)日: 2021-03-02
发明(设计)人: 陈小红;阳智勇;吴丽红;王开民;黄立为;蒋学;刘微;叶美松;孙铭徽;杨抒臻;罗霄 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G09G3/3225 分类号: G09G3/3225
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;刘伟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 时序 控制 方法 模组 显示装置
【说明书】:

发明提供一种时序控制方法、时序控制模组和显示装置。所述时序控制方法,应用于显示面板,所述时序控制方法包括:选择与显示面板上的第一显示区域对应的对比显示区域;所述对比显示区域设置于所述显示面板上的第二显示区域中;检测在特定灰阶下,所述对比显示区域的亮度以及所述第一显示区域的亮度;根据所述对比显示区域的亮度与所述第一显示区域的亮度,生成分别为所述第一显示区域和所述第二显示区域提供的栅极驱动信号。本发明实施例能够使得第一显示区域内的像素电路的充电电压和第二显示区域内的像素电路的充电电压相匹配,缩小第一显示区域和第二显示区域的亮度差异。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种时序控制方法、时序控制模组和显示装置。

背景技术

在现有技术中,Notch区(异形区)等异形显示设计应用越来越广,但现有异形显示的工艺设计使全像素显示区域与异形区结构特点和电学特性有较大差异。电学差异会导致全像素显示区与异形区产生亮度差异,目视异常。

要保证屏幕显示效果,就需要缩小全像素显示区域与异形显示区的显示亮度差异。当前针对该问题的主流解决方案为如下两种:

1.通过Mask(掩膜)设计变更,改善非显示区域等效RC(阻容),缩小全像素显示区域与异形区的RC差异;该方案的缺陷如下掩膜改善成本较高,很难精确计算补偿量,需要多次更换掩膜实验,且补偿精度有限。

2.通过Demura(去Mura,Mura为显示亮度不均)补偿;根据全像素显示区域和异形区之间的亮度差异,变更输入的全像素显示区域和异形区原始图像数据,以缩小全像素显示区域和异形区之间的目视亮度差异。该方案的缺陷如下:灰阶间亮度关系按2.2曲线调节,且Demura算法按相邻区块像素补偿,补偿精度有限,目前对Notch区Mura改善程度不明显。

综上,现有的改善Notch区Mura的方案具有控制不灵活、补偿效果有限、影响用户使用体验、改善成本高等不足。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种时序控制方法、时序控制模组和显示装置,解决现有的时序控制方法在改善Notch区Mura时,具有控制不灵活、补偿效果有限、影响用户使用体验、改善成本高等不足的问题。

为了达到上述目的,本发明提供了一种时序控制方法,应用于显示面板,所述时序控制方法包括:

选择与显示面板上的第一显示区域对应的对比显示区域;所述对比显示区域设置于所述显示面板上的第二显示区域中;

检测在特定灰阶下,所述对比显示区域的亮度以及所述第一显示区域的亮度;

根据所述对比显示区域的亮度与所述第一显示区域的亮度,生成分别为所述第一显示区域和所述第二显示区域提供的栅极驱动信号。

实施时,所述第一显示区域为非完全显示区域中的至少部分区域,所述第二显示区域为全像素显示区域;所述第一显示区域与所述第二显示区域相邻。

实施时,所述对比显示区域与所述第一显示区域相邻,所述对比显示区域的面积与所述第一显示区域的面积相等;所述对比显示区域中的像素电路的行数等于所述第一显示区域中的像素电路的行数。

实施时,所述特定灰阶小于预定灰阶。

实施时,所述根据所述对比显示区域的亮度与所述第一显示区域的亮度,设定分别为所述第一显示区域和所述第二显示区域提供的栅极驱动信号步骤包括:

计算所述对比显示区域的亮度与所述第一显示区域的亮度的比值,所述比值为亮度比值;

生成为所述第一显示区域提供的第一栅极驱动信号,以及为所述第二显示区域提供的第二栅极驱动信号,以使得第二充电时间与第一充电时间之间的比值等于所述亮度比值;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910378411.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top