[发明专利]区域日照分析方法、装置、设备和存储介质

说明书

本发明涉及一种区域日照分析方法、装置、设备和存储介质，该方法包括：获取目标分析区域内的采样点以及遮挡集，遮挡集包括能对目标分析区域产生遮挡的建筑模型集合，建筑模型集合包括预先指定待调整的第一建筑模型和预先指定无需调整的第二建筑模型；计算第一建筑模型调整后的第一日照约束时间集合，和，目标分析区域的初始日照约束时间集合与第二建筑模型的日照约束时间集合的共有时间集合，得到第二日照约束时间集合，初始日照约束时间集合包括目标分析区域没有任何建筑遮挡时各个采样点的日照约束时间集合；计算第一日照约束时间集合和第二日照约束时间集合的共有时间集合，以得到目标日照约束时间集合。提高了建筑模型微调时日照分析的效率。

技术领域

本发明涉及日照分析技术领域，具体涉及一种区域日照分析方法、装置、设备和存储介质。

背景技术

日照分析是指，具有相关资质的专业技术部门利用分析软件，在指定日期进行模拟计算某一层建筑或高层建筑群对其北侧某一规划、或保留地块的建筑、建筑部分层析的日照影响情况或日照时数

在实际的设计规划过程中，需要不断调节建筑模型，以满足设计时的日照需求。例如，通过调节建筑模型，改变建筑的位置、角度以及高度的拉伸，来满足日照需求。

在建筑设计阶段，往往需要根据建筑模型对周边环境的日照影响对建筑模型进行多次微调，现有技术中，在建筑模型每次微调后，需要重新对该建筑模型对周边环境的日照影响，例如，某些建筑模型没进行微调，在重新计算微调的建筑模型对周边日照的影响时，也需要将其对日照的影响进行计算。这样，重复进行日照分析，降低了工作效率，浪费了大量的人力和时间。

发明内容

有鉴于此，提供一种区域日照分析方法、装置、设备和存储介质，以解决现有技术中的当建筑模型微调后重复计算日照分析带来的工作效率低、浪费人力和时间的问题。

第一方面，本申请实施例提供了一种区域日照分析方法，该方法包括：

获取目标分析区域内的采样点以及遮挡集，所述遮挡集包括能对所述目标分析区域产生遮挡的建筑模型集合，所述建筑模型集合包括预先指定待调整的第一建筑模型和预先指定无需调整的第二建筑模型；

计算所述第一建筑模型调整后的第一日照约束时间集合，以及，所述目标分析区域的初始日照约束时间集合与所述第二建筑模型的日照约束时间集合的共有时间集合，以得到第二日照约束时间集合，其中，所述初始日照约束时间集合包括目标分析区域没有任何建筑遮挡时各个采样点的日照约束时间集合；

计算所述第一日照约束时间集合和所述第二日照约束时间集合的共有时间集合，以得到目标日照约束时间集合。

第二方面，本申请实施例提供了一种区域日照分析装置，该装置包括：

获取模块，用于获取目标分析区域内的采样点以及遮挡集，所述遮挡集包括能对所述目标分析区域产生遮挡的建筑模型集合，所述建筑模型集合包括预先指定待调整的第一建筑模型和预先指定无需调整的第二建筑模型；

第一计算模块，用于计算所述第一建筑模型调整后的第一日照约束时间集合，以及，所述目标分析区域的初始日照约束时间集合与所述第二建筑模型的日照约束时间集合的共有时间集合，以得到第二日照约束时间集合，其中，所述初始日照约束时间集合包括目标分析区域没有任何建筑遮挡时各个采样点的日照约束时间集合；

第二计算模块，用于计算所述第一日照约束时间集合和所述第二日照约束时间集合的共有时间集合，以得到目标日照约束时间集合。

第三方面，本申请实施例提供了一种设备，该设备包括：

处理器，以及与所述处理器相连接的存储器；

所述存储器用于存储计算机程序，所述计算机程序至少用于执行本申请实施例第一方面所述的区域日照分析方法；