[发明专利]一种制冷装置

权利要求书

1.一种制冷装置，其特征在于，包括：

制冷层，所述制冷层在7μm～14μm波段的发射率为70％～100％；

储冷层，所述储冷层包括储冷材料以及用于对所述储冷材料进行限位的支撑结构，所述储冷层与所述制冷层之间存在热交换接触面；

流体通道，所述流体通道形成于所述储冷层内，所述流体通道具有入口和出口，用于与所述储冷层进行热交换的流体适于通过所述入口进入所述流体通道并从所述出口排出。

2.根据权利要求1所述的制冷装置，其特征在于，所述储冷材料为固-固相变储冷材料或固-液相变储冷材料，所述储冷材料的相变温度低于60℃。

3.根据权利要求2所述的制冷装置，其特征在于，所述储冷材料的相变温度为10℃～30℃。

4.根据权利要求1所述的制冷装置，其特征在于，所述储冷层的支撑结构为壳体，所示壳体形成一容纳腔，所述储冷材料填充在由所述壳体限定的容纳腔内，所述制冷层覆盖在所述壳体的至少部分外表面，所述流体通道位于所述储冷材料内，所述流体通道的所述入口以及所述出口形成于所述壳体上；或者，所述壳体形成一具有开口的容纳腔，所述储冷材料填充在所述容纳腔内，所述制冷层设于所述容纳腔的开口处并将所述开口封闭，所述储冷材料与所述制冷层形成面接触，所述流体通道的所述入口以及所述出口形成于所述壳体上。

5.根据权利要求4所述的制冷装置，其特征在于，与所述制冷层接触的所述壳体部分由金属材料制备，未被所述制冷层覆盖的所述壳体部分由保温材料制备或者在未被所述制冷层覆盖的所述壳体外设置保温层。

6.根据权利要求1所述的制冷装置，其特征在于，所述制冷层包括层叠设置的反射层和发射层，所述反射层层叠设于所述储冷层上，所述反射层对可见光以及近红外光的反射率大于60％，所述发射层包括高分子基材以及分散在高分子基材中的辐射制冷体。

7.根据权利要求1-6任一所述的制冷装置，其特征在于，所述制冷装置还包括至少一管道，所述管道包括依次连通的输入管段、换热管段和输出管段，所述换热管段设于所述储冷层内，所述换热管段内形成所述流体通道。

8.根据权利要求7所述的制冷装置，其特征在于，所述换热管段的厚度不超过10mm。

9.根据权利要求7所述的制冷装置，其特征在于，所述管道包括多个所述换热管段，各所述换热管段的两端分别与所述输入管段和所述输出管段连通。

10.根据权利要求7所述的制冷装置，其特征在于，所述管道在所述输出管段处设置出口阀，所述管道在所述输入管道处设置进口阀，所述进口阀和所述出口阀用于控制流体定向地进出所述流体通道。

11.根据权利要求7所述的制冷装置，其特征在于，所述换热管段的部分外壁与所述制冷层接触，所述换热管段的热导率大于所述储冷材料的热导率。