[发明专利]核磁共振匀场方法、装置、计算设备及核磁共振成像系统有效

专利信息
申请号: 201910361092.9 申请日: 2019-04-30
公开(公告)号: CN110074786B 公开(公告)日: 2022-12-06
发明(设计)人: 徐威;蒋先旺;姜广煜;方一 申请(专利权)人: 上海东软医疗科技有限公司;东软医疗系统股份有限公司
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055
代理公司: 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 代理人: 林祥
地址: 200241 上海市闵*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 核磁共振 方法 装置 计算 设备 核磁共振成像 系统
【说明书】:

本说明书提供一种核磁共振匀场方法、装置、计算设备及核磁共振成像系统,该核磁共振匀场方法包括:获得设定组织部位的成像体积内的磁场非均匀度数据;利用针对所述设定组织部位预先获得的感兴趣组织区域选择掩模,从所述磁场非均匀度数据中获得感兴趣组织区域的非均匀度数据;基于所述感兴趣组织区域的非均匀度数据计算匀场补偿系数;在对所述设定组织部位进行核磁共振成像时,基于所述匀场补偿系数对感兴趣组织区域内的磁场进行均匀度补偿。应用本申请实施例在进行核磁共振成像时对感兴趣组织区域内的磁场进行均匀度补偿,避免了采集的匀场数据相位不连续等问题,提高了匀场的精确性和准确性。

技术领域

本说明书涉及核磁共振成像技术领域,尤其涉及核磁共振匀场方法、装置、计算设备及核磁共振成像系统。

背景技术

核磁共振成像(Nuclear Magnetic Resonance Imaging,简称MRI)的原理是,利用人体组织内的氢核(氢原子)的自旋运动的特点,在外加强磁场作用下,经射频脉冲激励产生电磁感应信号,经过相应数据重建形成核磁共振图像。在成像范围内的均匀强磁场是核磁共振成像的前提,而这种磁场均匀性在人体组织进入磁场后,会因人体组织的复杂性而产生扰动,使得成像范围内的磁场均匀度下降,因而在成像过程中需要对磁场进行均匀度补偿,也即匀场。

目前的匀场方式,通常是基于所选择的整个视野或者基于规则的矩形感兴趣体积进匀场补偿值的计算,匀场的范围通常包含了不需要的空腔或者其他组织区域,导致采集的匀场数据的相位不连续等问题,从而使得最终的匀场效果不佳。而在临床应用中,如脂肪抑制成像和磁共振波谱成像中,感兴趣的组织区域内磁场均匀度达不到要求会导致临床成像效果受到影响。

发明内容

为克服相关技术中存在的问题,本说明书提供了核磁共振匀场方法、装置、计算设备及核磁共振成像系统,以提高感兴趣的组织区域内的磁场均匀度。

具体地,本申请是通过如下技术方案实现的:

第一方面,提供一种核磁共振匀场方法,所述方法包括:

获得设定组织部位的成像体积内的磁场非均匀度数据;

利用针对所述设定组织部位预先获得的感兴趣组织区域选择掩模,从所述磁场非均匀度数据中获得感兴趣组织区域的非均匀度数据;

基于所述感兴趣组织区域的非均匀度数据计算匀场补偿系数;

在对所述设定组织部位进行核磁共振成像时,基于所述匀场补偿系数对感兴趣组织区域内的磁场进行均匀度补偿。

第二方面,提供一种核磁共振匀场装置,所述装置包括:

采集单元,用于获得设定组织部位的成像体积内的磁场非均匀度数据;

获得单元,用于利用针对所述设定组织部位预先获得的感兴趣组织区域选择掩模,从所述磁场非均匀度数据中获得感兴趣组织区域的非均匀度数据;

计算单元,用于基于所述感兴趣组织区域的非均匀度数据计算匀场补偿系数;

补偿单元,用于在对所述设定组织部位进行核磁共振成像时,基于所述匀场补偿系数对感兴趣组织区域内的磁场进行均匀度补偿。

第三方面,提供一种计算设备,所述设备用于计算核磁共振成像系统对设定组织部位成像时感兴趣组织区域内的磁场的匀场补偿系数,所述设备包括:内部总线,以及通过内部总线连接的存储器、处理器和外部接口;其中,

所述外部接口,用于从所述核磁共振成像系统获取设定组织部位的成像体积内的磁场非均匀度数据,以及用于将匀场补偿系数传输至所述核磁共振成像系统;

所述存储器,用于存储核磁共振匀场对应的机器可读指令;

所述处理器,用于读取所述存储器上的所述机器可读指令,并执行所述指令实现如下操作:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海东软医疗科技有限公司;东软医疗系统股份有限公司,未经上海东软医疗科技有限公司;东软医疗系统股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910361092.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top