[发明专利]使用超临界流体萃取技术拆分光学异构体的方法

权利要求书

1.一种通过超临界流体萃取技术从外消旋体中拆分光学异构体的方法，包括：

a)将外消旋体在催化剂的存在下反应形成包括第一形式的第一光学异构体和第二形式的第二光学异构体的混合物；

b)将所述混合物进行超临界流体萃取处理，以允许所述第一形式的第一光学异构体和所述第二形式的第二光学异构体得以分离；和

c)收集分离的所述第一形式的第一光学异构体，和/或收集分离的所述第二形式的第二光学异构体；

其中，所述外消旋体是DL-泛解酸内酯，所述第一形式的第一光学异构体是D-泛解酸，所述第二形式的第二光学异构体是L-泛解酸内酯，所述的催化剂是D-泛解酸内酯水解酶。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述催化剂是固定在基底上的。

3.如权利要求1所述的方法，其中在所述步骤a)之后和步骤b)之前进一步包括：去除所述混合物中所述催化剂的残留物。

4.如权利要求1所述的方法，进一步包括纯化和/或浓缩所述分离的第一形式的第一光学异构体，和/或纯化和/或浓缩所述分离的第二形式的第二光学异构体。

5.如权利要求1所述的方法，进一步包括将所述第二形式的第二光学异构体转化成所述外消旋体。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述超临界流体萃取处理是在超临界流体萃取装置中进行的，其中所述超临界流体萃取装置包括载有流体的容器、冷却系统、升压系统、萃取釜、分离釜。

7.如权利要求1所述的方法，其中在萃取温度和萃取压力下，所述第一形式的第一光学异构体和所述第二形式的第二光学异构体在超临界流体中的溶解度不同。

8.如权利要求7所述的方法，其中所述第一形式的第一光学异构体在超临界流体中的溶解度显著地小于所述第二形式的第二光学异构体在超临界流体中的溶解度。

9.如权利要求6所述的方法，其中所述超临界流体萃取处理包括将所述混合物置于所述萃取釜中，从所述容器出来的流体进入制冷系统和高压系统形成超临界流体，然后超临界流体进入所述萃取釜与所述混合物接触，在萃取温度和萃取压力下进行萃取，然后被萃取成分随超临界流体进入分离釜被分离，并收集所述被萃取成分。

10.如权利要求9所述的方法，其中所述超临界流体是CO₂、N₂O、SF₆、乙烷、庚烷、NH₃或其组合。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述超临界流体是CO₂。

12.如权利要求11所述的方法，其中所述CO₂的流量为10-30kg/h。

13.如权利要求7所述的方法，其中所述萃取温度为28-40℃，所述萃取压力为28-50MPa。

14.如权利要求7所述的方法，其中萃取时间为1-6h。

15.如权利要求6所述的方法，其中所述分离釜由串联的分离釜组成。

16.如权利要求6所述的方法，其中所述分离釜由串联的三级分离釜组成，其中一级分离釜分离温度为35-40℃，分离压力为7-9MPa；二级分离釜分离温度为25-28℃，分离压力为3-5MPa；三级分离釜分离温度为45-48℃，分离压力为3-5MPa。