[发明专利]一种激光清洗能量密度阈值的控制方法

说明书

本发明公开了激光清洗技术领域的一种激光清洗能量密度阈值的控制方法,通过外接电源控制开关所有电器，开启激光器，激光器所发出的激光经过聚光镜作用于清洗材料基体的表面,然后通过探测器可对激光等离子体进行探测，通过微型处理器进行处理计算；然后重复操作，得到多组激光能量值与峰值电压值，并通过微型处理器进行处理计算，即可得到激光清洗能量密度阈值，从而进行控制；通过探测器可随时快速的对激光能量进行探测，然后通过与微型处理器的配合，可快速的探测激光能量值和探测激光等离子体的峰值电压值的关系计算激光清洗清洗阈值和激光损伤阈值，避免了需要多次重复试验，缩减了试验的时间与成本。

技术领域

本发明涉及激光清洗技术领域，具体为一种激光清洗能量密度阈值的控制方法。

背景技术

在进行激光清洗时，当激光能量过高时，容易对需要清洗的材料造成一定程度的破坏，而当激光能量过底时，又无法有效的对材料进行清洗，虽然现有技术中已经提出了激光清洗能量密度阈值的检测方法，但均操作复杂，且无法有效精准的对激光能量进行控制；为此我们提出一种激光清洗能量密度阈值的控制方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种激光清洗能量密度阈值的控制方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种激光清洗能量密度阈值的控制方法：包括激光器、聚光镜、探测器、清洗材料基体、位移传感器、微型处理器、光谱仪、滤波镜。

一种激光清洗能量密度阈值的控制方法，包括如下步骤，

S1：通过外接电源控制开关所有电器，开启激光器，激光器所发出的激光经过聚光镜作用于清洗材料基体的表面；

S2：而激光在经历S1步骤后会产生激光等离子体，然后通过探测器可对激光等离子体进行探测，

S3：而激光等离子体在经过光谱仪与滤波镜后，会进入到微型处理器中，通过微型处理器进行处理计算；

S4：然后重复操作S1到S3步骤多次，得到多组激光能量值与峰值电压值，并通过微型处理器进行处理计算，即可得到激光清洗能量密度阈值，从而进行控制。

进一步的，所述步骤S1到S3需重复操作五次以上。

进一步的，所述步骤S1中的预设清洗时间为1秒至1.25秒。

进一步的，所述步骤S4中的激光能量值呈由小向大，等范围改变。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

该激光清洗能量密度阈值的控制方法，操作简单，使用方便，通过探测器可随时快速的对激光能量进行探测，然后通过与微型处理器的配合，可快速的探测激光能量值和探测激光等离子体的峰值电压值的关系计算激光清洗清洗阈值和激光损伤阈值，避免了需要多次重复试验，缩减了试验的时间与成本。

附图说明

图1为本发明结构示意图。

图中：1、激光器；2、聚光镜；3、探测器；4、清洗材料基体；、5、位移传感器；6、微型处理器；7、光谱仪；8、滤波镜。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1，本发明提供一种技术方案：一种激光清洗能量密度阈值的控制方法：包括激光器1、聚光镜2、探测器3、清洗材料基体4、位移传感器5、微型处理器6、光谱仪7、滤波镜8。

一种激光清洗能量密度阈值的控制方法，包括如下步骤，