[发明专利]一种离型膜保护膜的硅转移测试方法

说明书

本发明公开一种离型膜保护膜的硅转移测试方法，包括如下步骤：步骤S1：截取胶带以及待测的离型膜，截取胶带A、胶带B以及一段离型膜，两段胶带均为sellotape胶带，且胶带A的两端分别记为a1、a2端，胶带B的两端记为b1、b2；步骤S2：将胶带A的a1端贴附于离型膜的表面，并使用手指抚平，然后将胶带A与离型膜分离；步骤S3：使胶带A的a1端贴附于a2端的表面，同时使胶带B的b1端贴附于b2端的表面；步骤S4：分别施加作用力使胶带A、胶带B分离，并将施加的作用力分别记为F₁、F₂；步骤S5：设置范围并计算转移率P，其中转移率为P＝F₁/F₂。本发明通过设置测试组以及对照组，并且将两组的测试数据进行计算，从而快速计算硅转移率，方便快捷，且测试结果准确率高。

技术领域

本发明涉及离型膜生产技术领域，具体为一种离型膜保护膜的硅转移测试方法。

背景技术

离型膜又称剥离膜、隔离膜、分离膜、硅油膜、防粘膜，是指表面具有分离性的薄膜，是将塑料薄膜做等离子处理，或涂氟处理，或涂硅离型剂于薄膜材质的表层上，如PET、PE、OPP等等，让它对于各种不同的有机压感胶可以表现出极轻且稳定的离型力，主要有基材，底胶和离型剂组成，在离型纸与离型膜的结构中，硅酮是重要的功能组分，起着与压敏胶分离的作用。然而在生产过程中，离型膜容易出现硅转移，影响产品的质量，进而需要离型膜的硅转移进行测试。

发明内容

本发明的目的在于提供一种离型膜保护膜的硅转移测试方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种离型膜保护膜的硅转移测试方法，包括如下步骤：

步骤S1：截取胶带以及待测的离型膜，截取胶带A、胶带B以及一段离型膜，两段胶带均为sellotape胶带，且胶带A的两端分别记为a1、a2端，胶带B的两端记为b1、b2；

步骤S2：将胶带A的a1端贴附于离型膜的表面，并使用手指抚平，然后将胶带A与离型膜分离；

步骤S3：使胶带A的a1端贴附于a2端的表面，同时使胶带B的b1端贴附于b2端的表面；

步骤S4：分别施加作用力使胶带A、胶带B分离，并将施加的作用力分别记为F₁、F₂；

步骤S5：设置范围并计算转移率P，其中转移率为P＝F₁/F₂。

优选的，步骤S1中截取胶带时，其中胶带A、胶带B等长、等宽，且两者型号形同。

优选的，步骤S3中，胶带A的两端贴附的面积与胶带B两端贴附的面积相等。

优选的，步骤S3中，将胶带A、胶带B两端贴附时，胶带A、胶带B的两端均为自然接触，且整体呈圆环状。

优选的，步骤S5中，当P处于0.95-1的范围时，视为无硅转移；当P处于0.8-0.95的范围时，视为轻度硅转移；当P小于0.8时，视为严重硅转移。

优选的，步骤S2中，将胶带A的a1端贴附于离型膜表面并采用手指抚平时，胶带A与离型膜的组合体整体确保无褶皱、凹痕，且胶带A与离型膜之间无气泡。

优选的，步骤S4中，将胶带A的两端贴附以及胶带B的两端贴附时，胶带A两端的粘结处以及胶带B两端的粘结处整体确保无褶皱、凹痕，且两端的接触面无气泡。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：