[发明专利]曝光机台对位标记调整优化方法

说明书

本揭示提供一种曝光机台对位标记调整优化方法包括：步骤S10：提供基板，所述基板上设有用于曝光机台抓取定位的对位标记；步骤S20：选择需要调试的图像传感器，根据所述对位标记，设定所述图像传感器上相应的对位标记参数以及光源参数；步骤S30：将图像传感器调整到目标光源，观察所述对位标记的变化，选取符合要求的所述目标光源；步骤S40：测量图像传感器抓取所述对位标记的准确率。本揭示通过对曝光机台的对位标记方法进行优化，以此提高NSK CCD对不同种类对位标记抓取能力以及抓取的准确率，使得产品的品质得到保障，同时也可以减少曝光过程中的对位时间，提高实际生产效率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种曝光机台对位标记调整优化方法。

背景技术

在液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)以及有机发光二极管(OrganicLight-Emitting Diode,OLED)显示器生产过程中，需要多次使用光刻工艺，在光刻工艺过程中，利用具有设计图案的光罩和紫外光对涂覆有光刻胶的基板进行曝光，可以将光罩上的图案投影到基板的光阻上，然后通过显影在玻璃基板上复制光罩的图案。在LCD和OLED生产过程中，需要反复几次进行光刻工艺才能完成阵列基板和彩膜基板的制作。

随着LCD以及OLED的显示面板的尺寸的逐渐变大，生产制造工厂端的日本精工(NSK)曝光机台使用的也逐渐增加，但是NSK图像传感器(Charge Coupled Device,CCD)画面调整难度较大，产品升级会出现不同的对位标记属性，所以要针对不同的对位标记调整不同CCD的对位标记参数以应对对位标记的抓取。

综上所述，现有曝光机台存在画面调整难度较大，对位准确率不高的问题。故，有必要提供一种曝光机台对位标记调整优化方法来改善这一缺陷。

发明内容

本揭示提供一种曝光机台对位标记调整优化方法，用于解决现有曝光机台存在的画面调整难度较大，对位准确率不高的问题。

本揭示提供一种曝光机台对位标记调整优化方法，包括：

步骤S10：提供基板，所述基板上设有用于曝光机台抓取定位的对位标记；

步骤S20：选择需要调试的图像传感器，根据所述对位标记，设定所述图像传感器上相应的对位标记参数以及光源参数；

步骤S30：将所述图像传感器调整到目标光源，观察所述对位标记的变化，选取符合要求的所述目标光源；以及

步骤S40：测量所述图像传感器抓取所述对位标记的准确率。

根据本揭示一实施例，所述对位标记为十字形、矩形、菱形或圆形。

根据本揭示一实施例，所述对位标记为十字形、矩形、菱形以及圆形中两种或两种以上图案组合的复合图形。

根据本揭示一实施例，所述对位标记参数包括外框长度以及延长长度。

根据本揭示一实施例，所述光源参数中的光源包括：落射光源以及反射光源。

根据本揭示一实施例，所述反射光源包括红色反射光源、蓝色反射光源以及绿色反射光源。

根据本揭示一实施例，所述光源参数包括快门速度、开始亮度、所需亮度、最大亮度以及最小亮度。

根据本揭示一实施例，所述步骤S30中，选取符合要求的所述目标光源的方法包括透视抓取以及反射抓取。

根据本揭示一实施例，在测量所述图像传感器抓取所述对位标记的所述准确率之前，还包括：设定所述准确率的预设准确率范围。

根据本揭示一实施例，当所述准确率小于所述预设准确率范围时，判定当前的所述对位标记参数以及所述光源参数失败，重新调整所述对位标记参数以及所述光源参数。