[发明专利]阴影渲染方法、装置、终端及存储介质

权利要求书

1.一种阴影渲染方法，其特征在于，所述方法包括：

确定虚拟场景中虚拟对象的渲染结构体的初始大小和初始位置；

将所述渲染结构体的方向确定为所述虚拟场景的光照方向；

将所述虚拟对象在所述光照方向上的多条切线与所述虚拟场景中阴影投射面的多个交点所围成的区域确定为阴影区域；

将所述渲染结构体从所述初始位置平移至能够覆盖所述阴影区域的位置，将所述渲染结构体从所述初始大小调整为能够覆盖所述阴影区域的大小，以得到用于渲染所述虚拟对象的阴影的渲染结构体；

根据当前视角和所述渲染结构体包括的多个像素点的深度信息，获取所述多个像素点的模型坐标，一个模型坐标用于描述一个像素点相对于所述虚拟对象的模型顶点的纹理信息；

根据所述多个像素点的模型坐标，对所述虚拟对象的阴影贴图进行采样，得到与所述多个像素点所对应的多个采样点，所述阴影贴图用于提供所述虚拟对象的阴影的纹理信息；

在所述虚拟场景中对所述多个采样点进行渲染，得到所述虚拟对象的阴影。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据当前视角和所述多个像素点的深度信息，获取所述多个像素点的模型坐标包括：

根据所述当前视角和所述多个像素点的深度信息，获取所述多个像素点的世界坐标，一个世界坐标用于描述一个像素点相对于所述虚拟场景的场景基点的位置信息；

根据所述多个像素点的世界坐标，获取所述多个像素点的模型坐标。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述当前视角和所述多个像素点的深度信息，获取所述多个像素点的世界坐标包括：

对每个像素点，以所述当前视角的视点为射线端点，在所述视点与所述像素点所确定的射线方向上，确定与所述视点之间的距离符合所述像素点的深度信息的目标像素点；

将所述目标像素点的世界坐标确定为所述像素点的世界坐标。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述多个像素点的世界坐标，获取所述多个像素点的模型坐标包括：

将所述当前视角的视点矩阵左乘所述多个像素点的世界坐标，得到所述多个像素点的本地坐标；

将所述多个像素点的本地坐标映射到纹理映射空间，得到所述多个像素点的模型坐标。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

根据所述多个像素点的屏幕坐标，从深度贴图中获取所述多个像素点的深度信息，一个屏幕坐标用于描述一个像素点相对于终端屏幕的屏幕基点的位置信息。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述渲染结构体为立方体、球体或者圆柱体。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

将所述光照方向的视点矩阵左乘所述虚拟对象的世界坐标，生成从所述光照方向对所述虚拟对象进行阴影投射的所述阴影贴图。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

若所述虚拟对象为不允许遮挡的虚拟对象，将所述虚拟对象的材质标记为目标材质，所述目标材质为渲染过程中不支持阴影渲染的材质。