[发明专利]用于硅系材料蚀刻处理的除热装置及除热装置的工作方法

权利要求书

1.用于硅系材料蚀刻处理的除热装置，包括试剂槽；设置于试剂槽内的第一换热器；以及冷凝器，其特征在于，在所述试剂槽与冷凝器之间设置有中间换热槽；

所述第一换热器内流通的介质为水，所述第一换热器的进水口与出水口均与中间换热槽连接，以形成循环回路；

所述中间换热槽内设置有第二换热器，且所述中间换热槽内填充有水；

所述第二换热器与冷凝器连接。

2.根据权利要求1所述的除热装置，其特征在于，所述第一换热器的进水口与中间换热槽之间设置有泵，以驱动第一换热器内的介质流动。

3.根据权利要求2所述的除热装置，其特征在于，所述第二换热器内流通的冷凝剂为乙二醇的水溶液。

4.根据权利要求1所述的除热装置，其特征在于，所述第一换热器的材质为氟化的饱和烃树脂。

5.根据权利要求1～4任意一项所述的除热装置，其特征在于，所述第二换热器的材质为铁或者不锈钢。

6.根据权利要求1所述的除热装置，其特征在于，所述第一换热器内流通的水为纯净水或者超纯水。

7.根据权利要求6所述的除热装置，其特征在于，所述第一换热器为螺旋状蛇形管式换热器。

8.根据权利要求1所述的除热装置，其特征在于，所述冷凝器还包括第一温度控制部件，控制冷凝器供应的冷凝剂温度为3～5℃；所述试剂槽还包括第二温度控制部件，控制试剂槽内温度为18～22℃。

9.一种除热装置的工作方法，其特征在于，利用权利要求1～8任意一项所述的除热装置进行冷却，监测中间换热槽内填充的水的pH值；

若所述水的pH值不小于4，则继续进行冷却；

若所述水的pH值小于4，则更换中间换热槽内的水。