[发明专利]具有靶向光热杀菌性能的硼酸功能化石墨烯材料的制备方法及应用

权利要求书

1.一种具有靶向光热杀菌性能的硼酸功能化石墨烯材料的制备方法，其特征在于：所述方法是通过选择羧基化石墨烯，基于氨基与羧基的缩合反应通过共价交联引入3-氨基吡啶，然后基于季铵化反应引入3-溴甲基苯硼酸，接枝硼酸基团及季铵盐基团，得到具有靶向光热杀菌性能的硼酸功能化石墨烯材料，包括如下步骤：

步骤一：将1~5重量份羧基化石墨烯、0.5~2重量份EDC、0.5~2重量份NHS和5~20重量份去离子水均匀混合，室温条件下搅拌4~12小时，得到混合液；

步骤二：将1~5重量份3-氨基吡啶加入到混合液中，室温条件下搅拌24~48小时，得到悬液A；

步骤三：对悬液A进行离心处理，使用去离子水洗涤；

步骤四：将步骤三得到的产物以5~20重量份DMF重悬，得到悬液B，向悬液B中加入1~5重量份3-溴甲基苯硼酸，在温度为50~100℃的油浴条件下搅拌6~12小时，得到悬液C；

步骤五：对悬液C进行离心处理，使用去离子水洗涤，得到具有靶向光热杀菌性能的硼酸功能化石墨烯材料。

2.根据权利要求1所述的具有靶向光热杀菌性能的硼酸功能化石墨烯材料的制备方法，其特征在于：所述步骤三和步骤五中的离心处理工艺参数为：离心转速为10000~15000转/分，离心时间为60~90分钟。

3.根据权利要求2所述的具有靶向光热杀菌性能的硼酸功能化石墨烯材料的制备方法，其特征在于：所述步骤三和步骤五中的离心处理工艺参数为：离心转速为11000转/分，离心时间为90分钟。

4.根据权利要求1或2所述的具有靶向光热杀菌性能的硼酸功能化石墨烯材料的制备方法，其特征在于：所述步骤一中羧基化石墨烯为2重量份，EDC为0.6重量份，NHS为0.6重量份，去离子水为10重量份；

所述步骤二中3-氨基吡啶为2重量份；

所述步骤四中DMF为10重量份，3-溴甲基苯硼酸为2重量份。

5.根据权利要求1或2所述的具有靶向光热杀菌性能的硼酸功能化石墨烯材料的制备方法，其特征在于：所述步骤五中得到的具有靶向光热杀菌性能的硼酸功能化石墨烯材料呈片状，片层厚度为1.1~1.4nm，粒径为150~250nm。

6.权利要求1~5任一项所述的制备方法得到的具有靶向光热杀菌性能的硼酸功能化石墨烯材料在多重耐药革兰阴性杆菌皮肤感染中的应用。

7.根据权利要求6所述的应用，所述皮肤感染为皮下脓肿或皮肤创面感染。