[发明专利]掺锡氧化铟粉中硅含量的测定方法

说明书

本发明属于理化检测技术领域，具体涉及一种掺锡氧化铟粉中硅含量的测定方法，采用钼蓝光度法进行测定掺锡氧化铟粉中硅的含量，具体包括制备标准溶液、分析试样溶液的制备、测定、分析结果的计算等步骤。采用本发明的方法能够快速、准确、高效的测定出掺锡氧化铟粉中硅的含量，且该方法简便、可靠，可用来监控掺锡氧化铟粉的质量，促进掺锡氧化铟粉行业的健康发展。

技术领域

本发明属于理化检测技术领域，具体涉及一种掺锡氧化铟粉中硅含量的测定方法。

背景技术

氧化铟锡(ITO，或者掺锡氧化铟)是一种铟(III族)氧化物(In₂O₃) and锡(IV族)氧化物(SnO₂)的混合物，通常质量比为90% In₂O₃，10% SnO₂。它在薄膜状时，透明，略显茶色。在块状态时，它呈黄偏灰色。ITO主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸、有机发光二极管、以及太阳能电池、和抗静电镀膜还有EMI屏蔽的透明传导镀膜。ITO也被用于各种光学镀膜，最值得注意的有建筑学中红外线-反射镀膜(热镜)、汽车、还有钠蒸汽灯玻璃等。别的应用包括气体传感器、抗反射膜、和用于VCSEL激光器的布拉格反射器。掺锡氧化铟(Indium tin oxide，IT0)是一种n型半导体材料，在实际应用中多以薄膜的形式出现。ITO薄膜具有对可见光透明、强烈反射红外光、电阻低的特性，应用广泛。ITO薄膜的制备一般都是先将ITO粉末制成靶材，然后用直流磁控溅射法将靶材制成ITO薄膜，对于制备靶材所用的ITO粉末，要求纯度高、粒度细、分散性好、掺杂均匀性好。

我国生产掺锡氧化铟粉的生产厂家有株冶集团、威海宝丽佳电子有限公司、河北鹏达新材料科技有限公司、柳州百韧特先进材料有限公司（柳州华锡铟锡材料有限公司）等，掺锡氧化铟粉主要作为制取ITO靶材的原料，使用量日益增多，ITO靶材通过磁控溅射获得的ITO导电膜作为透明电极广泛应用于笔记本电脑、电脑显示器、智能手机、液晶电视等，是当今信息产业极为重要的电子功能材料，应用极为广泛。而制取高性能的ITO靶材需要掺锡氧化铟粉，对掺锡氧化铟粉的要求严格。掺锡氧化铟粉的主要性能指标包括粉体的纯度、物相、粒度等。目前，掺锡氧化铟粉尚无国家标准或行业标准，产品没有统一规范、质量良莠不齐，不利于掺锡氧化铟粉的生产、应用、贸易、仲裁等。因此，作为生产ITO靶材一种低成本高质量的原材料，有必要研究一种对掺锡氧化铟粉中硅含量进行测定的方法，从而监控掺锡氧化铟粉的质量，促进掺锡氧化铟粉行业的健康发展。

发明内容

本发明的目的是提供一种掺锡氧化铟粉中硅含量的测定方法，该测定方法是采用钼蓝光度法进行测定掺锡氧化铟粉中硅的含量，采用该方法能够快速、准确、高效的测定出掺锡氧化铟粉中硅的含量，进而监控掺锡氧化铟粉的质量，促进掺锡氧化铟粉行业的健康发展。

为实现上述目的，本发明采用如下的技术方案：

一种掺锡氧化铟粉中硅含量的测定方法，采用钼蓝光度法进行测定掺锡氧化铟粉中硅的含量，具体包括如下步骤：

（1）制备标准溶液：

①硅标准贮存溶液：准确称取0.2140 g预先在1000℃灼烧1 h并于干燥器冷却至室温的二氧化硅，ωSiO₂≥99.99%，置于铂坩埚中，加入2 g无水碳酸钠并混匀，于1000 ℃高温炉中熔融10 min～15 min，取出冷却，置于400 mL聚四氟乙烯烧杯中，用热水浸出熔块并洗净坩埚，加热溶解熔块，冷却至室温，移入1 000 mL容量瓶中，用水稀释至刻度，混匀；立即移入干燥的塑料瓶中；此溶液1 mL 含0.1 mg 硅；

②硅标准溶液A： 移取20.00 mL硅标准贮存溶液于100 mL容量瓶中，用水稀释至刻度，混匀，立即移入干燥的塑料瓶中，此溶液1 mL 含20 µg硅，贮存于塑料瓶中；