[发明专利]显影剂容器、显影装置、处理盒、成像装置和制造方法

权利要求书

1.一种显影剂容器，包括：

容纳部分，该容纳部分包括由第一树脂形成的第一框架和由具有导电性的第二树脂形成的第二框架，并且被配置为容纳显影剂；以及

具有导电性的导电片，

其中，导电片设置在容纳部分的内壁面上，

第二框架具有用于将第二框架接合到导电片的接合表面，

第一框架和第二框架共用不均匀配合部分，在该不均匀配合部分中第一框架和第二框架在与接合表面相交的方向上彼此配合，

不均匀配合部分具有接触面，在接触面处第一框架和第二框架彼此接触，并且所述不均匀配合部分由第一框架和第二框架之间的边界部分形成，

由第一框架、第二框架和导电片形成间隙，并且

接触面是面向间隙并设置在沿着接合表面的方向上的面。

2.根据权利要求1所述的显影剂容器，

其中接触面是第一框架和第二框架分别在边界部分处具有的面。

3.根据权利要求1或2所述的显影剂容器，

其中，当沿着接合表面的法线方向观察时，接合表面设置在导电片的内侧，并且

不均匀配合部分沿着导电片的较短边设置在沿导电片的纵向方向设置有接合表面的一侧。

4.根据权利要求1或2所述的显影剂容器，

其中，当沿着接合表面的法线方向观察时，不均匀配合部分包括：被配置为在沿着接合表面的方向上的一侧与接合表面配合的部分，以及被配置为在另一侧与接合表面配合的部分，所述另一侧在所述一侧的相反侧上。

5.根据权利要求1或2所述的显影剂容器，

其中，接触面是不均匀配合部分的面向间隙的两个表面当中的、在间隙和所述两个表面被设置的方向上距间隙更远的面。

6.根据权利要求1或2所述的显影剂容器，

其中，当沿着接合表面的法线方向观察时，第二树脂的注入量大于不均匀配合部分的第二树脂的注入量的区域被设置在如下位置处：在该位置，第一框架的接触面夹在该区域和不均匀配合部分之间。

7.根据权利要求1或2所述的显影剂容器，

其中，当沿着接合表面的法线方向观察时，不均匀配合部分被形成为包围接合表面的整个圆周。

8.根据权利要求1或2所述的显影剂容器，

其中，当沿着接合表面的法线方向观察时，不均匀配合部分被形成在不均匀配合部分的至少一部分与导电片重叠的区域中。

9.根据权利要求1或2所述的显影剂容器，

其中，被平行于与接合表面相交的方向的平面剖开的不均匀配合部分的横截面具有圆弧形状。

10.根据权利要求1或2所述的显影剂容器，

其中，被平行于与接合表面相交的方向的平面剖开的不均匀配合部分的横截面具有锥形形状。

11.一种显影装置，包括：

根据权利要求1至10中任一项所述的显影剂容器，

其中，使用容纳在容纳部分中的显影剂对形成在图像承载构件上的静电潜像进行显影。

12.一种处理盒，该处理盒能够从图像形成装置的主体拆卸，所述处理盒包括：

根据权利要求1至10中任一项所述的显影剂容器；以及

图像承载构件，在该图像承载构件上形成有显影剂图像，

其中，使用容纳在容纳部分中的显影剂在图像承载构件上形成显影剂图像。

13.一种图像形成装置，包括：

根据权利要求1至10中任一项所述的显影剂容器；以及

图像承载构件，在该图像承载构件上要形成显影剂图像，

其中，使用容纳在容纳部分中的显影剂在图像承载构件上形成显影剂图像，并且

使用形成在图像承载构件上的显影剂图像在记录介质上形成图像。

14.一种显影剂容器的制造方法，该显影剂容器包括容纳部分和具有导电性的导电片，该容纳部分包括由第一树脂形成的第一框架和由具有导电性的第二树脂形成的第二框架并且被配置为容纳显影剂，所述制造方法包括：

通过将第一树脂注入其中固定有导电片的模具中，与导电片一体地形成第一框架；以及

通过将第二树脂注入到其中固定有导电片和第一框架的模具中，与导电片和第一框架一体地形成第二框架，

其中，第二框架具有用于将第二框架接合到导电片的接合表面，

第一框架和第二框架共用不均匀配合部分，在该不均匀配合部分中第一框架和第二框架在与接合表面相交的方向上彼此配合，

不均匀配合部分具有接触面，在该接触面处第一框架和第二框架彼此接触，并且所述不均匀配合部分由第一框架和第二框架之间的边界部分形成，

由第一框架、第二框架和导电片形成间隙，

接触面是面向间隙的面，该面设置在沿着接合表面的方向上，并且

在形成第二框架时，将第二树脂注入到不均匀配合部分中，并且注入的第二树脂朝向接触面收缩。