[发明专利]一种磁力控制抛球路径的球磨机

说明书

本发明提供了一种磁力控制抛球路径的球磨机，属于建筑技术领域。本球磨机包括内转筒、外护筒和机座，机座与外护筒固定相连，内转筒转动连接在外护筒内，内转筒上周向均匀设置有若干通磁单元，每个通磁单元包括开设在内转筒外壁上的安装槽、插设在安装槽内的衔铁块和绕设在衔铁块上的通电线圈，通电线圈的两端分别连接有一个固定在内转筒上的电刷，外护筒内壁上具有两个弧形的通电条，两个通电条分别连接一电源的正负极，通电条的弧度在0.5π～1.2π之间，内转筒内置有若干由通磁材料制成的研磨球；内转筒由一驱动电机驱动。本发明具有能够使研磨球抛球路径更多、提高研磨效率等优点。

技术领域

本发明属于建筑施工设备技术领域，涉及一种磁力控制抛球路径的球磨机。

背景技术

球磨广泛应用与建筑、化工、医药等领域，球磨机一般包括内转筒和外护筒，当球磨机内转筒转动时候，研磨介质由于惯性和离心力作用，以及摩擦力的作用，使它附在内转筒衬板上被筒体带走，当被带到一定的高度时候，由于其本身的重力作用而被抛落，下落的研磨体像抛射体一样将筒体内的物料给击碎。

现有的球磨机存在如下问题：

一：抛球路径单一，击碎范围小。以粒径相同的球状研磨介质为例，在内转筒转速一定的情况下，研磨介质随内转筒旋转至一定高度后脱离内转筒的位置单一，抛出路径几乎相同，即便是采用多种不同粒径的研磨介质混用，因不同粒径的研磨介质自重和惯性力不同，抛出位置有所变化，研磨介质离开内转筒的位置也始终处于内转筒最低点和内转筒最高点之间的一半内转筒一侧，一般抛球区域的弧度小于0.5π，以顺时针旋转为例，抛球位置和抛球路径始终处于内转筒的右侧，即便研磨介质因为惯性力作用而呈抛物线路径抛出，但因待研磨物料的存在而不能够抛出至内转筒的另一侧。

抛球位置单一，击碎范围小必然导致其球磨效率低下，且在内转筒内壁相对平整的情况下，物料在内转筒内流通效率较低，研磨不均，研磨不充分。

二：研磨介质对内转筒内壁的磨损和撞击严重，研磨介质磨损严重，物料污染严重。研磨介质抛出后撞击内转筒内壁，各研磨介质之间相互碰撞，而现有的研磨介质一般采用铁质或石质或陶瓷材质，撞击过程产生废屑较多，污染待研磨物料，内转筒磨损严重。

三：滤出物料比较麻烦，物料浪费严重。物料研磨完成后需要滤出研磨介质，研磨介质携带的物料在短时间内无法清除，对物料造成浪费，且需要多次滤出，操作不便，总体效率较低。

发明内容

本发明的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种磁力控制抛球路径的球磨机，本发明所要解决的技术问题是如何使研磨球的抛出路径多元化，提高研磨效率。

本发明的目的可通过下列技术方案来实现：一种磁力控制抛球路径的球磨机，其特征在于，本球磨机包括内转筒、外护筒和机座，所述机座与外护筒固定相连，所述内转筒转动连接在外护筒内，所述内转筒上周向均匀设置有若干通磁单元，每个通磁单元包括开设在内转筒外壁上的安装槽、插设在安装槽内的衔铁块和绕设在衔铁块上的通电线圈，所述通电线圈的两端分别连接有一个固定在内转筒上的电刷，所述外护筒内壁上具有两个弧形的通电条，两个通电条分别连接一电源的正负极，所述通电条的弧度在0.5π～1.2π之间，所述内转筒内置有若干由通磁材料制成的研磨球；所述内转筒由一驱动电机驱动。

电源正负极分别连接两个通电条，驱动电机带动内转筒旋转的过程中，通电条能够通过电刷接通通电导线，使衔铁块通磁，通磁后的衔铁块能够吸附研磨球，使研磨球被集中在各衔铁块附近的内转筒内壁处，直至通电线圈断电，研磨球的抛球点位于通电条端点处的内转筒内内壁处。