[发明专利]一种含氟高分子疏水镀层

权利要求书

1.一种含氟高分子疏水镀层，该疏水镀层由单体组合物在基材表面共聚得到，其特征在于，单体组合物包含单体A和单体B，单体A为聚合性含氟单体，单体B为含有两个及以上乙烯性双键的烯烃类单体、含有乙烯性双键和环氧基的烯烃类单体、以及含有乙烯性双键和异氰酸酯基的烯烃类单体中的一种或多种，单体A和单体B的摩尔比例为1∶10～10∶1。

2.权利要求1所述的含氟高分子疏水镀层，其中，单体A的结构式为CH₂＝C(R₁)-R₂-R₃或CH₂＝C(R₁)-R₃，其中R₁为-H或-CH₃，R₂为苯基或酯基或磺酰胺酯类基团，R₃为含氟基团，R₃的结构式为-(CH₂)x-(CF₂)y-CF₃或-(CH₂)x-(CF₂)y-CF₂H，其中x＝0～2，y＝3～7。

3.权利要求2所述的含氟高分子疏水镀层，其中，单体A为1H，1H，2H，2H-全氟癸基丙烯酸酯、1H，1H-全氟辛基丙烯酸酯、1H，1H，2H，2H-全氟辛基丙烯酸酯和1H，1H，2H，2H-全氟辛基甲基丙烯酸酯中的一种或多种。

4.权利要求1所述的含氟高分子疏水镀层，其中，单体B为含有乙烯性双键和环氧基的烯烃类单体和含有乙烯性双键和异氰酸酯基的烯烃类单体中的一种或两种。

5.权利要求1所述的含氟高分子疏水镀层，其中，单体B为含有乙烯性双键和异氰酸酯基的烯烃类单体。

6.权利要求1所述的含氟高分子疏水镀层，其中，所述基材为金属、聚合物材料、电子器件、生物仿生材料、医疗器械、纺织材料和陶瓷中的一种。

7.权利要求1所述的含氟高分子疏水镀层，其中，单体A的饱和蒸汽压为0.01～4mmHg，单体B的饱和蒸汽压为0.01～4mmHg。

8.权利要求1所述的含氟高分子疏水镀层的制备方法，采用引发式化学气相沉积方法制备，包括如下步骤，

步骤1：将基材置于反应腔底部的样品台上，样品台温度为10～50℃；

步骤2：反应腔真空度保持为100～1000mtorr，控制反应腔内合金丝至180～280℃；

步骤3：气化的单体组合物和引发剂，混合后，通入反应腔，反应腔内反应时间为5～120min；

步骤4：退火处理，退火温度40～200℃，退火湿度30％～98％，退火时间2～36h。