[发明专利]用于辐射疗法治疗计划的系统

权利要求书

1.一种用于辐射疗法治疗计划的系统，其特征在于包括：

存储器；以及

处理器，所述处理器被联接到所述存储器并且被配置来：

接收定义包括第一结构和第二结构的多个区域的输入以及针对所述区域中的每一者的原始治疗目标，所述原始治疗目标包括针对所述第一结构的第一原始治疗目标以及针对所述第二结构的第二原始治疗目标，其中所述第一原始治疗目标与所述第二原始治疗目标不一致；

检测所述第一结构与所述第二结构之间的几何重叠；

定义围绕所述第一结构的边距；

定义多个经修改区域，所述经修改区域包括：

第一经修改区域，所述第一经修改区域包括所述第二结构的不与所述第一结构或所述边距重叠的任何部分，

第二经修改区域，所述第二经修改区域包括所述第一结构的不与所述第二结构重叠的任何部分，

第三经修改区域，所述第三经修改区域包括所述第二结构的与所述边距重叠的任何部分，以及

第四经修改区域，所述第四经修改区域包括所述第二结构的与所述第一结构重叠的任何部分；

确定一组经修改治疗目标，所述经修改治疗目标包括：针对所述第一经修改区域的第一经修改治疗目标，针对所述第二经修改区域的第二经修改治疗目标，针对所述第三经修改区域的第三经修改治疗目标，以及针对所述第四经修改区域的第四经修改治疗目标，其中基于所述第一原始治疗目标和所述第二原始治疗目标来确定所述经修改治疗目标；以及

在治疗计划过程中使用所述多个经修改区域和所述一组经修改治疗目标来生成用于治疗患者的治疗计划。

2.如权利要求1所述的系统，其中所述第一结构对应于靶标结构，而所述第二结构对应于危及器官。

3.如权利要求1所述的系统，其中所述第一结构对应于危及器官，而所述第二结构对应于靶标结构。

4.如权利要求1所述的系统，其中所述第一结构和所述第二结构对应于两个不同的靶标结构。

5.如权利要求1所述的系统，其中所述第一结构和所述第二结构对应于两个不同的危及器官。

6.如权利要求1至5中任一项所述的系统，其中定义所述边距包括：访问使用射束类型参数和射束能量参数的查找表，以检索对应的边距。

7.如权利要求1至5中任一项所述的系统，其中定义所述边距包括：访问使用射束类型的查找表、所述第一结构在所述患者体内的位置以及从所述第一原始治疗目标所确定的均匀性要求，以检索对应的边距。

8.如权利要求1至5中任一项所述的系统，其中定义所述边距包括：定义所述第一结构的前向表面的前边距以及所述第一结构的后向表面的后边距，其中所述前边距大于所述后边距。

9.如权利要求1至5中任一项所述的系统，其中定义所述边距包括：

基于射束几何模型来预测围绕所述第一结构的剂量形状；以及

基于所预测的剂量形状来定义所述边距。

10.如权利要求1至5中任一项所述的系统，其中所述第二原始治疗目标指定由所述第二结构接收的剂量的上限，并且其中确定所述经修改治疗目标包括：在减小由所述第一经修改区域接收的剂量的上限的同时允许由所述第四经修改区域和所述第三经修改区域接收的剂量超过所述上限。