[发明专利]一种超声波物位计在审

专利信息
申请号: 201910084235.6 申请日: 2019-01-29
公开(公告)号: CN109540264A 公开(公告)日: 2019-03-29
发明(设计)人: 王顺强;王伟 申请(专利权)人: 重庆兆洲科技发展有限公司
主分类号: G01F23/296 分类号: G01F23/296
代理公司: 重庆图为知识产权代理事务所(普通合伙) 50233 代理人: 蒋国荣
地址: 400039 重庆市九*** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: 超声波传感器 超声波 被测物体 反射器件 物位计 反射 方向设置 纳米涂层 处理器 竖直 垂直 重力作用 发射 测量液 夹角为 水滴 附着 结雾 射出 射入 涂覆
【权利要求书】:

1.一种超声波物位计,其特征在于,包括:外壳、超声波传感器、反射器件、以及处理器,所述超声波传感器、反射器件、以及处理器均设置在所述外壳内,所述超声波传感器沿竖直方向设置,所述超声波传感器与所述反射器件之间的夹角为45度,所述超声波传感器的外表面所在的整个平面涂覆有纳米涂层;

所述超声波传感器,用于发射以及接收超声波;

所述反射器件,用于对所述超声波传感器发射的超声波进行反射后,使得超声波垂直射出到被测物体;以及将从所述被测物体反射回来的超声波进行反射后,使得超声波垂直射入所述超声波传感器;

所述处理器,用于根据所述超声波传感器发射以及接收超声波的时间差,计算所述超声波物位计与所述被测物体之间的距离。

2.如权利要求1所述的超声波物位计,其特征在于,还包括干扰处理器件,所述干扰处理器件沿水平方向设置,且设置在所述超声波传感器下方,所述干扰处理器件与所述超声波传感器位于同一侧,所述干扰处理器件的一端与所述外壳相连接,另一端与所述超声波传感器的外表面齐平;

所述干扰处理器件,用于对从所述被测物体反射回来的干扰超声波进行干扰减弱处理。

3.如权利要求2所述的超声波物位计,其特征在于,所述干扰处理器件包括吸音棉或毛刺。

4.如权利要求1所述的超声波物位计,其特征在于,所述反射器件的外表面是光滑且平坦的。

5.如权利要求1所述的超声波物位计,其特征在于,所述反射器件的外表面涂覆有纳米涂层。

6.如权利要求1所述的超声波物位计,其特征在于,所述外壳的内侧壁暴露在外的部分,涂覆有纳米涂层。

7.如权利要求1所述的超声波物位计,其特征在于,还包括显示单元,所述显示单元用于将所述处理器计算的所述超声波物位计与所述被测物体之间的距离进行显示;

或者,所述处理器还用于根据所述超声波物位计到所述被测物体的底面的距离、以及所述超声波物位计与所述被测物体之间的距离,计算所述被测物体的高度;所述显示单元用于将所述处理器计算的所述被测物体的高度进行显示。

8.如权利要求1所述的超声波物位计,其特征在于,所述反射器件包括:反射镜。

9.如权利要求1至8任一项所述的超声波物位计,其特征在于,还包括背衬材料,所述背衬材料设置于所述超声波传感器的后面区域;

所述背衬材料,用于吸收所述超声波传感器的后面区域的超声波。

10.如权利要求9所述的超声波物位计,其特征在于,将从所述超声波传感器的外表面的中心点起,沿着所述反射器件一侧延伸的垂线到所述外壳为止的距离,记为第一距离;将从所述超声波传感器的外表面的中心点起,沿着背离所述反射器件一侧延伸的垂线到所述外壳为止的距离,记为第二距离;所述第二距离的取值范围包括:大于等于所述第一距离与所述第二距离之和的1/4,且小于等于所述第一距离与所述第二距离之和的1/2。

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